Изготовление микро- и наноразмерных структур с применением протонной пучковой литографии: современное состояние и перспективы развития

Abstract

Рассмотрено применение сфокусированных пучков протонов с энергией нескольких МэВ в технологии изготовления микро- и наноразмерных структур. Показаны отличительные особенности взаимодействия энергетичных протонов с резистивными материалами. Дано представление о современном состоянии технологии протонной пучковой литографии и сформулированы перспективы ее развития.

Розглянуто застосування сфокусованих пучків протонів з енергією декількох МеВ в технології виготовлення мікро- та нанорозмірних структур. Показано відмітні особливості взаємодії енергетичних протонів з резистивними матеріалами. Викладені уявлення про сучасний стан технології протонної пучкової літографії та сформульовані перспективи її розвитку.

The application of focusing beams of protons with MeV energy in fabrication technology of micro- and nano-dimension structures is considered. Difference features of energetic protons interaction with resistive materials are shown. The representation about state of the art of technology of proton beam lithography is given and prospects of its development are formulated.