Высокопористые плазменно-дуговые покрытия вольфрама: технология изготовления и эрозионные свойства

Abstract

Разработана технология изготовления вакуумно-дуговым методом высокопористых наноструктурных W пленок с малым размером пор и исследовано их эрозионное поведение при воздействии стационарной, достаточно плотной низкотемпературной плазмы. Показано, что зависимость скорости эрозии от атомного номера рабочего газа хорошо согласуется с расчетными данными по уравнению для ионного распыления, а абсолютная величина скорости эрозии для высокопористых пленок W практически совпадает с таковой для массивных образцов W.

Розроблена технологія виготовлення вакуумнодуговим методом високопористих, наноструктурних W плівок з малим розміром пір і досліджена їх ерозійна поведінка при дії стаціонарної, достатньо щільної низькотемпературної плазми. Показано, що залежність швидкості ерозії від атомного номера робочого газу добре узгоджується з розрахунковими даними по рівнянню для іонного розпилювання, а абсолютна величина швидкості ерозії для високопористих плівок W практично співпадає з такою для масивних зразків W.

The technology has been developed for high porous nanostructure W films production with vacuum-arc method. Erosion behavior of such coatings was studied under impact of steady state, dense enough low temperature plasma. It has been shown that the erosion rate dependences on working gas atomic number are in a good agreement with the calculated data for ion sputtering, and the absolute values of erosion rate for high porous W films agree closely with the one for bulk tungsten.