Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала

dc.contributor.author	Панфилов, Ю.В.
dc.contributor.author	Самойлович, М.И.
dc.contributor.author	Булыгина, Е.В.
dc.date.accessioned	2014-01-22T22:01:04Z
dc.date.available	2014-01-22T22:01:04Z
dc.date.issued	2005
dc.identifier.citation	Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала / Ю.В. Панфилов, М.И. Самойлович, Е.В. Булыгина // Технология и конструирование в электронной аппаратуре.— 2005.— № 2.— С. 49-52.— Бібліогр.: 2 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	2225-5818
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53554
dc.description.abstract	Рассмотрено влияние методов термического испарения, ионно-плазменного магнетронного распыления и осаждения тонких пленок из ионного пучка на характеристики поверхности фотонных кристаллов.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Технология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.subject	Технологические процессы и оборудование	uk_UA
dc.title	Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала	uk_UA
dc.title.alternative	Нанесення тонких плівок у вакуумі на підкладинках з синтетичного опалу	uk_UA
dc.title.alternative	Thin film deposition on synthetic opal substrate	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA