Показати простий запис статті

dc.date.accessioned 2017-07-17T14:52:54Z
dc.date.available 2017-07-17T14:52:54Z
dc.date.issued 1999
dc.identifier.citation Микроскоп МКИ-2М // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 1. — С. 30. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 2225-5818
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122690
dc.description.abstract Предназначен для использования в технологическом процессе при производстве изделий электронной техники для контроля дефектов структур интегральных микросхем на фотошаблонах и полупроводниковых пластинах. Может применяться для исследования фотошаблонов и полупроводниковых пластин в светлом и темном поле отраженного света при разработке технологических процессов, в лабораторной практике и для массовых контрольных операций внешнего вида изделий при производстве ИС. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Технология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.subject Научно-промышленные центры СНГ uk_UA
dc.title Микроскоп МКИ-2М uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис