Показати простий запис статті
dc.date.accessioned |
2017-07-17T14:52:54Z |
|
dc.date.available |
2017-07-17T14:52:54Z |
|
dc.date.issued |
1999 |
|
dc.identifier.citation |
Микроскоп МКИ-2М // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 1. — С. 30. — рос. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
2225-5818 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122690 |
|
dc.description.abstract |
Предназначен для использования в технологическом процессе при производстве изделий электронной техники для контроля дефектов структур интегральных микросхем на фотошаблонах и полупроводниковых пластинах. Может применяться для исследования фотошаблонов и полупроводниковых пластин в светлом и темном поле отраженного света при разработке технологических процессов, в лабораторной практике и для массовых контрольных операций внешнего вида изделий при производстве ИС. |
uk_UA |
dc.language.iso |
ru |
uk_UA |
dc.publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|
dc.subject |
Научно-промышленные центры СНГ |
uk_UA |
dc.title |
Микроскоп МКИ-2М |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті