Резонансный метод определения толщин вакуумно-осажденных тонких пленок

Abstract

В данной работе рассмотрен метод измерения толщины нанесённой плёнки и скорости её напыления методом кварцевого датчика. Установлено, что при помощи резонансного метода может быть осуществлен непрерывный контроль толщин тонких пленок в диапазоне 10-100 нм. Определена структура пленок никеля и зависимость их толщин от резонансной частоты кварцевого кристалла.

У роботі розглянуто метод визначення товщини плівки та швидкості її нанесення методом кварцового датчика. Встановлено, що за допомогою резонансного методу стає можливим здійснення безперервного контролю товщин тонких плівок у діапазоні 10-100 нм. Визначена структура плівок нікелю та залежність їх товщин від резонансної частоти кварцового кристалу.

This work deals with the methods of thickness measuring of the coated film by means of a quartz sensor. Nickel films thickness dependence on quartz crystal resonance frequency were obtained and graphically presented.