Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Особенности формирования объемного заряда в сильноточной плазменной линзе
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Особенности формирования объемного заряда в сильноточной плазменной линзе
Тема:
Нерелятивистская плазменная электроника
УДК:
533.9
Посилання:
Особенности формирования объемного заряда в сильноточной плазменной линзе / А.М. Завалов, В.Н. Горшков, А.А. Гончаров // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 4. — С. 60-62. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
Дата:
2003
Переглядів:
739
Завантажень:
300
Анотація:
Приводятся результаты компьютерного моделирования процесса установления стационарных состояний в сильноточной электростатической плазменной линзе, плазменная среда которой образуется широкоапертурным ионным пучком и электронами вторичной ионно-электронной эмиссии. В математической модели учитывались конкретные параметры плазменной линзы, используемой в экспериментах. Установлено образование в объеме ПЛ слоистой электронной структуры, определяемой неоднородным характером распределения внешнего потенциала на электродах-фиксаторах и изолирующего магнитного поля.
