Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы

Abstract

Исследована возможность регулировки состава Ti-Al-N покрытий получаемых вакуумно-дуговым методом путём смешения потоков плазмы от генераторов с титановым и алюминиевым катодом. Фильтрация потоков осуществлялась с помощью общего для обоих генераторов Т-образного двухканального фильтра Установлено, что изменения содержания алюминия и титана в покрытии можно достичь путём регулировки соотношения разрядных токов в генераторах плазмы. Увеличение диапазона регулировки состава покрытия достигается путём подбора интенсивности магнитных полей в анодных секциях генераторов плазмы. Полученные покрытия однородны по составу на подложке диаметром 180 мм. Определены условия, позволяющие регулировать концентрацию алюминия в пределах от ∼14 вес.% до ∼60 вес.%.

Досліджено можливість регулювання составу Ti-Al-N покриттів, які отримано вакуумно-дуговим методом шляхом змішування потоків плазми від генераторів із титановим та алюмінієвим катодом. Фільтрація потоків здійснювалась за допомогою спільного для обох генераторів T подібного двоканального фільтру. Встановлено, що зміни вмісту алюмінію та титану в покритті можливо досягти шляхом регулювання співвідношення розрядних струмів генераторів плазми. Збільшення діапазону регулювання составу покриття досягається шляхом підбору інтенсивності магнітних полів в анодних секціях генераторів плазми. Отримані покриття однорідніза складом на підкладці діаметром 180 мм. Визначено умови, які дозволяють регулювати концентрацію алюмінію у межах від ∼14 ваг.% до ∼60 ваг.%.

Ability of Ti Al N films composition adjustment, deposited using vacuum arc technique by mixing of plasma streams from plasma sources equipped with titanium and aluminum cathodes was investigated. Plasma filtering was performed by common to both plasma sources T-shaped two-channel filter. It has been found that film composition can be varied by changing arc currents in plasma sources. Adjustment range can be expanded by changing magnetic field intensity in anode sections of plasma sources. Obtained films have uniform composition on 180 mm diameter surface. Conditions for composition adjustment range from ∼14 wt.% to ∼60 wt.% were found.