Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Ковальчук, И.К. |
|
dc.contributor.author |
Левенец, В.В. |
|
dc.contributor.author |
Омельник, А.П. |
|
dc.contributor.author |
Щур, А.А. |
|
dc.contributor.author |
Широков, Б.М. |
|
dc.date.accessioned |
2016-04-18T07:08:49Z |
|
dc.date.available |
2016-04-18T07:08:49Z |
|
dc.date.issued |
2007 |
|
dc.identifier.citation |
Изучение свойств пленок сплава Si-Ge на пучке протонов, полученных методом CVD / И.К. Ковальчук, В.В. Левенец, А.П. Омельник, А.А. Щур, Б.М. Широков // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 3-4. — С. 197–202. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1999-8074 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98831 |
|
dc.description.abstract |
Метод ХРИ и деконволюционная процедура на основе алгоритма максимального правдоподобия была применена для неразрушающего 3D исследования образцов сплава Si-Ge, полученного методом CVD. Показано, что разработанная технология позволяет изучать локальное
распределение элементов и определять профили концентрации Ge до глубины около 20 мкм
для данного конкретного сочетания определяемый элемент-матрица. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Метод ХРВ и деконволюційна процедура на основі алгоритму максимальної правдоподібності
була використана для неруйнівного 3D дослідження зразків сплаву Si-Ge, отриманого методом
CVD. Показано що розроблена технологія дозволяє вивчати локальний розподіл елементів і визначати профілі концентрації Ge до глибини біля
20 мкм для даного конкретного сполучення елемент-матриця. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Method PIXE and deconvoluted procedure on the
basis of algorithm of the maximum likelihood has
been applied for not destroying 3D researches of
samples of alloy Si-Ge received by method CVD. It
is shown, that the developed technology allows to
study local distribution of elements and to define
structures of concentration Ge up to depth about 20
microns for the given concrete combination a defined
element-matrix. |
uk_UA |
dc.language.iso |
ru |
uk_UA |
dc.publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Физическая инженерия поверхности |
|
dc.title |
Изучение свойств пленок сплава Si-Ge на пучке протонов, полученных методом CVD |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Вивчення властивостей плівок сплаву Si-Ge на пучці протонів, отриманих методом CVD |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Studying on a beam of protons film of alloy Si-Ge, received by method CVD |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
dc.identifier.udc |
539.1.074.55 |
|
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті