Проведен анализ эффектов, связанных с бомбардировкой поверхности сложной формы частицами, в широко используемых плазменных процессах нанесения покрытий, объектом изучения которого является регулярная последовательность атомов, бомбардируемая извне под
углом α относительно нормали к оси ряда. Рассмотрен процесс взаимодействия атомных частиц
с поверхностями в области энергий бомбардирующих частиц порядка единиц или десятков
электрон-вольт.
Рассмотрены основные тенденции поведения величин, которые позволяют сделать предварительные выводы о превалирующих процессах на начальной стадии напыления покрытия
на поверхность подложки.
Проведений аналіз ефектів, зв’язаних з бомбардуванням поверхні складної форми частинками,
у широко використовуваних плазмових процесах
нанесення покриттів, об’єктом вивчення якого є
регулярна послідовність атомів, яка бомбардується ззовні під кутом α щодо нормалі до осі ряду.
Розглянуто процес взаємодії атомних частинок з
поверхнями, що бомбардуються в області енергій
порядку, одиниць або десятків електрон-вольт.
Розглянуто основні тенденції поводження величин,
що дозволяють зробити попередні висновки про
переважаючі процеси на початковій стадії напилювання покриття на поверхню підкладинки.
The analysis of the effects connected to bombardment
of a surface of the difficult form by particles, in widely
used plasma processes of sputtering the coverings
which object of studying is the regular sequence of
atoms bombarded from the outside at a angle a
concerning a normal to an axis of series. A process of
interaction of atomic particles with surfaces in area
energies bombarding particles of order from units to
tens electron-volt is investigation.
Are considered the basic tendencies of behaviour the
values which allow to draw preliminary conclusions
for prevailing processes at an initial stage sputtering
coverings on a surface of a substrate.