Рассматривается возможность получения отрицательных ионов водорода при плазменном травлении углерода в водородной плазме пучково-плазменного разряда. Перспективность использования пучково-плазменного разряда для травления углерода связана с тем, что плазменное травление является одним из способов создания автоэмиссионных углеродных катодов с большой плотностью эмиссионных центров.
У роботі розглядається можливість отримання негативних іонів водню при плазмовому травленні
вуглецю у водневій плазмі пучково-плазмового розряду. Перспективність використання пучково-
плазмового розряду для травлення вуглецю пов’язана з тим, що плазмове травлення є одним із способів
створення автоемісійних вуглецевих катодів з високою густиною емісійних центрів.
In this paper it is considered a possibility of a hydrogen negative ion obtainment at hydrogen plasma etching of
carbon into a beam-plasma discharge. The usage perspective of beam-plasma discharge for carbon etching is connected
with this fact that a plasma etching is one of a way on the auto emission carbon cathodes with the emission
high density centers.