Радиальная структура продольного комбинированного разряда в SF6

Abstract

Данная работа посвящена экспериментальному изучению влияния высокочастотного электрического поля на радиальные зависимости плотности тока ионов разряда постоянного тока, а также постоянного напряжения на радиальные зависимости плотности тока высокочастотного разряда. В разрядной камере, содержащей электрод с коллекторами, экспериментально измерены радиальные зависимости плотности ионного тока продольного комбинированного разряда (высокочастотное и постоянное электрическое поля прикладываются к одним и тем же электродам) для разных давлений SF6, а также вольтамперные характеристики разряда. Определены оптимальные условия для проведения технологических процессов, используя комбинированный разряд в SF6.

Цю роботу присвячено експериментальному вивченню впливу високочастотного електричного поля на радіальні залежності густини струму іонів розряду постійного струму, а також постійної напруги на радіальні залежності густини струму високочастотного розряду. В розрядній камері, що містить у собі катод з колекторами, були експериментально виміряні радіальні залежності густини струму поздовжнього комбінованого розряду (високочастотне та постійне електричні поля прикладались до одних і тих самих електродів) для різних тисків SF6, а також вольтамперні характеристики розряду. Визначені оптимальні умови для проведення технологічних процесів, що використовують розряд в SF6.

This work is devoted to experimental study of the radio frequency (RF) electric field influence to the radial ion current density profiles of the direct current (DC) discharge, and the DC voltage influence to the radial ion current density profiles of the RF discharge. In the discharge chamber, which includes electrode with collectors radial ion current density profiles of the longitudinal combined discharge (RF and DC electric fields were applied to the same electrodes) were measured experimentally for different SF6 pressures, and also current-voltage characteristics of the discharge were obtained. The optimal conditions for plasma technologies using combined discharge in SF6 were defined.