Пленки диоксида титана для фотокатализа и медицины

Abstract

В обзоре рассмотрены основные методы получения диоксида титана в виде тонких пленок. Результаты анализа литературных данных позволяет сделать заключение о том, что наиболее предпочтительным методом получения фотокаталитических пленок диоксида титана является процесс осаждения потоков плазмы вакуумной дуги в присутствии кислорода. Наилучшими свойствами обладают пленки, получаемые с помощью плазменных фильтров (систем очистки потоков вакуумно-дуговой плазмы от микрокапель катодного материала) Однако, разработанные к настоящему времени плазменные фильтры отличаются малым коэффициентом использования рабочего материала, громоздкостью и высокой стоимостью. Альтернативой методу получения покрытий с помощью плазменных фильтров может послужить процесс получения покрытий при повышенных (более 1 Па) давлениях рабочего газа.

У огляді розглянуті основні методи отримання діоксиду титану у вигляді тонких плівок. Результати аналізу літературних даних дозволяє зробити висновок про те, що найбільш переважним методом отримання фотокаталітичних плівок діоксиду титану є процес осадження потоків плазми вакуумної дуги у присутності кисню. Якнайкращими властивостями володіють плівки, що отримуються за допомогою плазмових фільтрів (систем очищення потоків вакуумно-дугової плазми від мікрокрапель катодного матеріалу) Проте, розроблені до теперішнього часу плазмові фільтри відрізняються малим коефіцієнтом використання робочого матеріалу, громіздкістю і високою вартістю. Альтернативою методу отримання покриттів за допомогою плазмових фільтрів може послужити процес отримання покриттів при підвищеному (більше 1 Па) тиску робочого газу.

In this review the basic methods of titanium dioxide thin films obtaining are considered. The results of literary data analysis allows to do conclusion that the most preferable method of photocatalytic titanium dioxide thin films obtaining is a process of vacuum arc plasma streams deposition in presence oxygen. The best properties are possessed by films, got by plasma filters (systems for macroparticles evacuating). However, the plasma filters developed to the present time differ the small coefficient of the use of working material, bulkiness’ and high cost. As an alternative of plasma filters coating deposition process can serve the coating deposition method at the heightened (more than 1 Pa) pressures of working gas.