Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2005
→
Вопросы атомной науки и техники, 2005, № 1
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Goncharov, A.
dc.contributor.author	Demchishin, A.
dc.contributor.author	Dobrovolskiy, A.
dc.contributor.author	Kostin, E.
dc.contributor.author	Panchenko, O.
dc.contributor.author	Pavlov, C.
dc.contributor.author	Protsenko, I.
dc.contributor.author	Stetsenko, B.
dc.contributor.author	Ternovoy, E.
dc.contributor.author	Brown, I. G.
dc.date.accessioned	2015-03-25T18:45:12Z
dc.date.available	2015-03-25T18:45:12Z
dc.date.issued	2005
dc.identifier.citation	Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications / A. Goncharov, A. Demchishin, A. Dobrovolskiy, E. Kostin, O. Panchenko, C. Pavlov, I. Protsenko, B. Stetsenko, E. Ternovoy, I. G. Brown // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С.169-171. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.other	PACS: 52.50.Dg , 52.77.Dq, 52.77.Bn
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79058
dc.description.abstract	We describe the operation of some new axially-symmetric plasma devices based on plasma-optical principles and the plasma lens configuration. Plasma devices of this kind using permanent magnets can be applied in a number of different applications for ion treatment and materials synthesis.	uk_UA
dc.description.abstract	Описуються деякі нові плазмові прилади, основані на використанні принципів плазмооптики та конфігурації плазмової лінзи. Прилади такого типу, що використовують постійні магніти, можуть застосовуватись для іонної обробки та отримання нових матеріалів.	uk_UA
dc.description.abstract	Описываются некоторые новые плазменные приборы, основанные на принципах плазмооптики и конфигурации плазменной линзы. Приборы такого типа, в которых используются постоянные магниты, могут применяться для ионной обработки и получения новых материалов.	uk_UA
dc.description.sponsorship	This works was supported by STCU #1596 and in part by STCU project #118(K).	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Low temperature plasma and plasma technologies	uk_UA
dc.title	Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications	uk_UA
dc.title.alternative	Плазмові прилади для використання з іонними пучками та плазмового осадження	uk_UA
dc.title.alternative	Плазменные приборы для манипулирования ионными пучками и плазменного осаждения	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA