Рассмотрен механизм формирования конденсата из ионно-плазменных потоков, который включает два основных процесса: приповерхностную имплантацию, сопровождающуюся перемешиванием, как результат действия высокоэнергетических осаждаемых частиц, и конденсацию низкоэнергетических частиц, при которой, в зависимости от температуры осаждения, проходится последовательность структурных состояний: аморфно-кластерное – кристаллическое β-мета-стабильной фазы – кристаллическое α-стабильной фазы.
Розглянутий механізм формування конденсату з іонно-плазмових потоків, який включає два основних процеси: приповерхневу імплантацію, яка супроводжується атомним перемішуванням, як наслiдок дiї високоенергетичних часток, що осаджуються, та конденсацію низькоенергетичних частинок при якої у залежності від температури осадження має мiсце утворення структурних станів у послiдовностi: аморфно-кластерний – кристалічної β-метастабільної фазикристалічної α-стабільної фази.
The mechanism of condensate formation from ionplasma fluxes was proposed which included two main processes: sub-surface implantation accompanied intermixing– for high-energy deposited particles, and low-energy particle condensation at which the consequence of structure states: amorphous-cluster – crystalline metastable β-phase – crystalline stable α-phase passes depending on the deposition temperature.