Подготовка поверхности подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий бомбардировкой ионами титана и циркония

Abstract

Рассмотрены вопросы, связанные с очисткой поверхности подложки путём бомбардировки ионами титана и циркония вакуумно-дуговым методом. Показано, что очистку подложек перед нанесением вакуумно-дуговых покрытий необходимо проводить в высоком вакууме (давление не более 0,004 Па) при отрицательном потенциале не менее 900 В. Показано, что очистка поверхности подложки ионами хрома более эффективна, чем ионами титана или циркония.

Розглянуто питання, пов’язані з очищенням поверхні підкладки шляхом бомбардування іонами титану й цирконію вакуумно-дуговим методом. Показано, що очищення підкладки перед нанесенням вакуумно-дугових покриттів необхідно проводити у високому вакуумі (тиск не більше 0,004 Па) при негативному потенціалі не менш 900 В. Показано, що очищення поверхні підкладки іонами хрому більше ефективна, чим іонами титану або цирконію.

The problems associated with cleaning the surface of the substrate by bombardment of ion titanium and zirconium a vacuum-arc method investigation. Shown that treatment of substrates before application of vacuum arc coatings should be carried out in high vacuum (pressure less than 0.004 Pa) at a negative potential of 900 V. It is shown that cleaning the substrate surface with chromium ions is more effective than titanium or zirconium ions.