Электрохимическое осаждение серебра в присутствии детонационных алмазосодержащих добавок

Abstract

Исследовано влияние детонационных алмазосодержащих добавок (детонационных наноалмазов марки ДНА-ТАН, алмазосодержащей шихты АШ нефракционированной и окисленной) на качество серебряных покрытий, полученных из дицианаргентатнороданистого электролита. Показано, что в присутствии добавок электропроводность электролита повышается, микротвердость покрытия повышается на 30–40% по сравнению с микротвердостью чистого серебра, резко снижается пористость покрытий (с 65 до 2 пор на 1 см2), их износостойкость повышается в 5 раз.

Досліджено вплив детонаційних добавок, що містять алмази (детонаційних наноалмазів марки ДНА-ТАН, алмазовміщуючої шихти АШ нефракціонованої і окисленої) на якість срібних покриттів, отриманих з диціанаргентатнороданистого електроліту. Показано, що в присутності добавок електропровідність електроліту підвищується, мікротвердість покриття підвищується на 30–40% в порівнянні з мікротвердістю чистого срібла, різко знижується пористість покриттів (з 65 до 2 пір на 1 см2), їх зносостійкість підвищується в 5 разів.

The influence of additives on the detonation of diamond quality silver coating. It is shown that the presence of additives in the electrolyte conductivity increases, the microhardness of coatings is increased by 30-40% compared to the microhardness of pure silver, the coating porosity decreases sharply (from 65 to 2 then to 1 cm2), their durability is increased by 5 times.