Предложена методика моделирования физических процессов, протекающих на поверхности охлаждаемых катодов в источниках электронов высоковольтного тлеющего разряда. Выполнены расчеты температуры на поверхности катода и его распыления под действием бомбардировки ионами. Рассмотрена энергетическая эффективность холодных катодов, используемых в технологических источниках электронов.
Запропоновано методику моделювання фізичних процесів, які відбуваються на поверхні охолоджуваних катодів у джерелах електронів високовольтного тліючого розряду. Виконано розрахунки температури на поверхні катода та його розпилення під дією іонного бомбардування. Розглянуто енергетичну ефективність холодних катодів, які використовуються у технологічних джерелах електронів.
The procedure of simulation of physical processes taking place on the cathode surface in the glow discharge electron sources is considered. Calculation of temperature on the cathode surface, and to cathode sputtering under the ions bombarding has been performed. Energy efficiency of cold cathodes, used in high voltage gas discharge electron sources, is also considered.