Формирование рельефных микроструктур на кремниевых подложках

Abstract

Рассмотрена возможность получения рельефных микроструктур на кремниевых подложках. Показано, что полученные рельефные микроструктуры могут быть использованы для записи, тиражирования и хранения информации, как в цифровом, так и в аналоговом виде. Для получения микроструктур использован способ электронно-лучевой литографии.

Розглянуто можливість одержання рельєфних мікроструктур на кремнієвих підкладках. Показано, що отримані рельєфні мікроструктури можуть бути використані для запису, тиражування й зберігання інформації як у цифровому, так і в аналоговому виді. Для одержання мікроструктур використано спосіб електронно-променевої літографії.

An opportunity of obtaining relief microstructures on silicon substrates is considered. It is shown that obtained relief microstructures can be used for recording, replication and information storage both in digital and analog form. For obtaining microstructures an electron-beam lithography technique is used.