Показати простий запис статті

dc.contributor.author Krivonosov, G.A.
dc.contributor.author Svystunov, O.А.
dc.contributor.author Vasiliev, A.V.
dc.contributor.author Sotnikov, G.V.
dc.date.accessioned 2023-12-11T11:41:49Z
dc.date.available 2023-12-11T11:41:49Z
dc.date.issued 2023
dc.identifier.citation Voltage source up to 30 kV with pulsation not more than 0.1% / G.A. Krivonosov, O.А. Svystunov, A.V. Vasiliev, G.V. Sotnikov // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 3. — С. 164-167. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 84.70.+p, 84.30.Jc, 84.30.r
dc.identifier.other DOI: https://doi.org/10.46813/2023-145-164
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/196161
dc.description.abstract A DC source with a voltage of 30 kV with a ripple of less than 0.1% has been developed and manufactured for accelerating and focusing electrons in a dielectric laser accelerator on a chip structure. The source, which has a smooth voltage change limit from 10 to 30 kV, with a ripple of 0.1% over the entire voltage range in the specified range, is made on the basis of a 3-phase network. Such voltage stability is necessary for the correct recording of the energy of electrons accelerated by a laser pulse. uk_UA
dc.description.abstract Розроблено та виготовлено джерело постійного струму напругою 30 кВ з пульсаціями менше 0,1% для прискорення та фокусування електронів у діелектричному лазерному прискорювачі на структурі мікросхеми. Джерело, що має плавну межу зміни напруги від 10 до 30 кВ, з пульсаціями 0,1% по всьому діапазону напруг у зазначеному діапазоні, виконано на основі 3-фазної мережі. Така стабільність напруги необхідна для правильної реєстрації енергії електронів, що прискорені лазерним імпульсом. uk_UA
dc.description.sponsorship The study is supported by the National Research Foundation of Ukraine under the program “Leading and Young Scientists Research Support” (project # 2020.02/0299), by NAS of Ukraine program “Perspective investigations on plasma physics, controlled thermonuclear fusion and plasma technologies”, project P-1/63-2020. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Problems of Atomic Science and Technology
dc.subject Applications and technologies uk_UA
dc.title Voltage source up to 30 kV with pulsation not more than 0.1% uk_UA
dc.title.alternative Джерело напруги до 30 кВ з пульсацією не більше 0,1% uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис