Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Krivonosov, G.A. |
|
dc.contributor.author |
Svystunov, O.А. |
|
dc.contributor.author |
Vasiliev, A.V. |
|
dc.contributor.author |
Sotnikov, G.V. |
|
dc.date.accessioned |
2023-12-11T11:41:49Z |
|
dc.date.available |
2023-12-11T11:41:49Z |
|
dc.date.issued |
2023 |
|
dc.identifier.citation |
Voltage source up to 30 kV with pulsation not more than 0.1% / G.A. Krivonosov, O.А. Svystunov, A.V. Vasiliev, G.V. Sotnikov // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 3. — С. 164-167. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.other |
PACS: 84.70.+p, 84.30.Jc, 84.30.r |
|
dc.identifier.other |
DOI: https://doi.org/10.46813/2023-145-164 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/196161 |
|
dc.description.abstract |
A DC source with a voltage of 30 kV with a ripple of less than 0.1% has been developed and manufactured for accelerating and focusing electrons in a dielectric laser accelerator on a chip structure. The source, which has a smooth voltage change limit from 10 to 30 kV, with a ripple of 0.1% over the entire voltage range in the specified range, is made on the basis of a 3-phase network. Such voltage stability is necessary for the correct recording of the energy of electrons accelerated by a laser pulse. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Розроблено та виготовлено джерело постійного струму напругою 30 кВ з пульсаціями менше 0,1% для прискорення та фокусування електронів у діелектричному лазерному прискорювачі на структурі мікросхеми. Джерело, що має плавну межу зміни напруги від 10 до 30 кВ, з пульсаціями 0,1% по всьому діапазону напруг у зазначеному діапазоні, виконано на основі 3-фазної мережі. Така стабільність напруги необхідна для правильної реєстрації енергії електронів, що прискорені лазерним імпульсом. |
uk_UA |
dc.description.sponsorship |
The study is supported by the National Research Foundation of Ukraine under the program “Leading and Young Scientists Research Support” (project # 2020.02/0299), by NAS of Ukraine program “Perspective investigations on plasma physics, controlled thermonuclear fusion and plasma technologies”, project P-1/63-2020. |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Problems of Atomic Science and Technology |
|
dc.subject |
Applications and technologies |
uk_UA |
dc.title |
Voltage source up to 30 kV with pulsation not more than 0.1% |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Джерело напруги до 30 кВ з пульсацією не більше 0,1% |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті