Influence of helium ions beams with energies 0.12 MeV on sputtering process on surface of tungsten

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Problems of Atomic Science and Technology, 2023
→
Problems of Atomic Science and Technology, 2023, № 3
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Manuilenko, O.V.
dc.contributor.author	Prokhorenko, E.M.
dc.contributor.author	Pavlii, K.V.
dc.contributor.author	Zajtsev, B.V.
dc.contributor.author	Dubniuk, S.N.
dc.contributor.author	Lytvynenko, V.V.
dc.contributor.author	Kasatkin, Yu.A.
dc.contributor.author	Prokhorenko, T.G.
dc.date.accessioned	2023-12-11T11:40:57Z
dc.date.available	2023-12-11T11:40:57Z
dc.date.issued	2023
dc.identifier.citation	Influence of helium ions beams with energies 0.12 MeV on sputtering process on surface of tungsten / O.V. Manuilenko, E.M. Prokhorenko, K.V. Pavlii, B.V. Zajtsev, S.N. Dubniuk, V.V. Lytvynenko, Yu.A. Kasatkin, T.G. Prokhorenko // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 3. — С. 158-163. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.other	PACS: 52.40.HF, 29.27Ac, 621.715:539.376, 87.55N
dc.identifier.other	DOI: https://doi.org/10.46813/2023-145-158
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/196160
dc.description.abstract	The samples of tungsten with a purity of 99.5 and 99.7% were irradiated with helium ion beams (EHe⁺ = 0.12 MeV). The total sputtering coefficients for the sample depth up to 60 Å from the surface of sample were obtained. It was found that on the surface of tungsten, the number of pits (the flecking effect) significantly exceeds the number of bubbles (the blistering effect). The damage profiles of the surface of tungsten as a result of irradiation with helium ions are calculated. The areas of maximal display of effects of damage are determined.	uk_UA
dc.description.abstract	Проведено опромінення зразків вольфраму з чистотою 99,5 і 99,7% пучками іонів гелію (EHe⁺ = 0,12 МeВ). Отримано сумарні коефіцієнти розпилення за глибиною зразка до 60 Å від поверхні зразка. Знайдено, що на поверхні зразків вольфраму кількість ямок (ефект флекінгу) істотно перевищує кількість бульбашок (ефект блістерингу). Пораховані профілі пошкодження поверхні вольфраму в результаті опромінення іонами гелію. Визначено зони максимального прояву руйнівних ефектів.	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Problems of Atomic Science and Technology
dc.subject	Applications and technologies	uk_UA
dc.title	Influence of helium ions beams with energies 0.12 MeV on sputtering process on surface of tungsten	uk_UA
dc.title.alternative	Вплив пучків іонів гелію з енергіями 0,12 МеВ на процес розпилення на поверхні вольфраму	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA