Показати простий запис статті
| dc.contributor.author | 
Шаповал, В.И. | 
 | 
| dc.contributor.author | 
Чукреев, Н.Я. | 
 | 
| dc.contributor.author | 
Полищук, В.А. | 
 | 
| dc.date.accessioned | 
2022-01-21T18:13:16Z | 
 | 
| dc.date.available | 
2022-01-21T18:13:16Z | 
 | 
| dc.date.issued | 
1983 | 
 | 
| dc.identifier.citation | 
Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве / В.И.Шаповал, Н.Я. Чукреев, В.А. Полищук // Украинский химический журнал. — 1983. — Т. 49, № 8. — С. 841-845. — Бібліогр.: 12назв. — рос. | 
uk_UA | 
| dc.identifier.issn | 
0041–6045 | 
 | 
| dc.identifier.uri | 
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/182813 | 
 | 
| dc.description.abstract | 
Необходимо было исследовать влияние степени окисления поверхностных слоев подложки на зародышеобразование кристаллов при электроосаждении бериллия. Повышенная склонность его хлорида к гидролизу и исключительная способность металла к сорбции примесей и образованию прочных поверхностных соединений являются источником омической составляющей, искажающей величину кристаллизационного перенапряжения. | 
uk_UA | 
| dc.language.iso | 
ru | 
uk_UA | 
| dc.publisher | 
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України | 
uk_UA | 
| dc.relation.ispartof | 
Украинский химический журнал | 
 | 
| dc.subject | 
Электрохимия | 
uk_UA | 
| dc.title | 
Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве | 
uk_UA | 
| dc.title.alternative | 
The Effect of Oxidic Layers on Beryllium Electrocrystallization in the Chloride Fusion | 
uk_UA | 
| dc.type | 
Article | 
uk_UA | 
| dc.status | 
published earlier | 
uk_UA | 
| dc.identifier.udc | 
541.135.3:541.135.52:669.725 | 
 | 
             
        
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті