Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Шаповал, В.И. |
|
dc.contributor.author |
Чукреев, Н.Я. |
|
dc.contributor.author |
Полищук, В.А. |
|
dc.date.accessioned |
2022-01-21T18:13:16Z |
|
dc.date.available |
2022-01-21T18:13:16Z |
|
dc.date.issued |
1983 |
|
dc.identifier.citation |
Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве / В.И.Шаповал, Н.Я. Чукреев, В.А. Полищук // Украинский химический журнал. — 1983. — Т. 49, № 8. — С. 841-845. — Бібліогр.: 12назв. — рос. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
0041–6045 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/182813 |
|
dc.description.abstract |
Необходимо было исследовать влияние степени окисления поверхностных слоев подложки на зародышеобразование кристаллов при электроосаждении бериллия. Повышенная склонность его хлорида к гидролизу и исключительная способность металла к сорбции примесей и образованию прочных поверхностных соединений являются источником омической составляющей, искажающей величину кристаллизационного перенапряжения. |
uk_UA |
dc.language.iso |
ru |
uk_UA |
dc.publisher |
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Украинский химический журнал |
|
dc.subject |
Электрохимия |
uk_UA |
dc.title |
Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве |
uk_UA |
dc.title.alternative |
The Effect of Oxidic Layers on Beryllium Electrocrystallization in the Chloride Fusion |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
dc.identifier.udc |
541.135.3:541.135.52:669.725 |
|
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті