Использование суспензий на основе пирогенного кремнезема для химико-механической полировки монокристаллического кремния

dc.contributor.author	Гайшун, В.Е.
dc.contributor.author	Косенок, Я.А.
dc.contributor.author	Тюленкова, О.И.
dc.contributor.author	Туров, В.В.
dc.contributor.author	Гунько, В.М.
dc.date.accessioned	2019-02-14T20:18:57Z
dc.date.available	2019-02-14T20:18:57Z
dc.date.issued	2008
dc.identifier.citation	Использование суспензий на основе пирогенного кремнезема для химико-механической полировки монокристаллического кремния / В.Е. Гайшун, Я.А. Косенок, О.И. Тюленкова, В.В. Туров, В.М. Гунько // Поверхность. — 2008. — Вип. 14. — С. 423-428. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	2617-5975
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/147497
dc.description.abstract	В статье описывается методика приготовления полирующих суспензий на основе наноразмерных частиц пирогенного кремнезема, приводятся их основные технологические характеристики, а также даются рекомендации по их использованию в химико-механической полировке полупроводниковых пластин монокристаллического кремния.	uk_UA
dc.description.abstract	This article describes a preparation technique of polishing suspensions based on pyrogenic silicon dioxide nanoparticles, determines their basic technical characteristics, and also the guidelines on their usage are given in the mechano-chemical polishing process of semiconductor wafers of single-crystalline silicon.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Поверхность
dc.subject	Наноматериалы и нанотехнологии	uk_UA
dc.title	Использование суспензий на основе пирогенного кремнезема для химико-механической полировки монокристаллического кремния	uk_UA
dc.title.alternative	Usage of suspensions based on fumed silica for mechano-chemical polishing of single-crystalline silicon	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA
dc.identifier.udc	546.28