dc.contributor.author |
Kalinichenko, A.I. |
|
dc.contributor.author |
Perepelkin, S.S. |
|
dc.contributor.author |
Reshetnyak, E.N. |
|
dc.contributor.author |
Strel’nitskij, V.E. |
|
dc.date.accessioned |
2018-06-17T10:41:35Z |
|
dc.date.available |
2018-06-17T10:41:35Z |
|
dc.date.issued |
2018 |
|
dc.identifier.citation |
Effect of time parameters of pulsed bias potential on intrinsic stress in TiN coating deposited from inclined ion beam / A.I. Kalinichenko, S.S. Perepelkin, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 1. — С. 114-117. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.other |
PACS: 61.80.Az, 81.65.-b |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/137375 |
|
dc.description.abstract |
In the model of the nonlocal thermoelastic peak of low-energy ion, the formation of intrinsic stress in the coating deposited from inclined ion beam at the pulsed bias potential with different values of pulse frequency f and duration tₚ is analyzed. The stress in the TiN coating deposited from Ti ion flux in the mode of the pulsed bias potential at various angles of incidence α and different values of time parameter τ = f tₚ is calculated. It is established that in the region 0.01 < τ < 0.2 the stress σ varies nonmonotonically with increasing α, decreasing up to angles of incidence α ~ 70º with subsequent growth. The calculated curve σ(τ) coincides with the experimental data at U = 1.5 kV and α = 0. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
У моделі нелокального термопружного піку низькоенергетичного іона проаналізовано формування внутрішніх напружень в покритті, що осаджується з похилого пучка іонів при імпульсному потенціалі зміщення з різними значеннями частоти f і тривалості tₚ імпульсів. Проведено розрахунок напружень в TiN-покритті, що осідає з потоку іонів Ti в режимі імпульсного потенціалу при різних кутах падіння іонів α і різних значеннях часового параметра τ = f tₚ. Установлено, що в області 0,01 < τ < 0,2 при збільшенні α напруга σ змінюється немонотонно, зменшуючись аж до кутів падіння α ~ 70º з наступним ростом, причому при U = 1,5 кВ і α = 0 хід розрахункової кривої σ(τ) збігається з експериментальними даними. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
В модели нелокального термоупругого пика низкоэнергетического иона проанализировано формирование внутренних напряжений в покрытии, осаждаемом из наклонного пучка ионов при импульсном потенциале смещения с различными значениями частоты f и длительности tₚ импульсов. Проведен расчет напряжений σ в TiN-покрытии, осаждаемом из потока ионов Ti в режиме импульсного потенциала при различных углах падения ионов α и различных значениях временного параметра τ = f tₚ. Установлено, что в области 0,01 < τ <0,2 при увеличении α напряжение σ изменяется немонотонно, уменьшаясь вплоть до углов падения α ~ 70º с последующим ростом, причем при U = 1,5 кВ и α = 0 ход расчетной кривой σ(τ) совпадает с экспериментальными данными. |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Вопросы атомной науки и техники |
|
dc.subject |
Физика и технология конструкционных материалов |
uk_UA |
dc.title |
Effect of time parameters of pulsed bias potential on intrinsic stress in TiN coating deposited from inclined ion beam |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Вплив часових параметрів імпульсного потенціалу зміщення на внутрішню напругу в покритті TiN, що осаджується з похилого пучка іонів |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Влияние временных параметров импульсного потенциала смещения на внутренние напряжения в покрытии TiN, осаждаемом из наклонного пучка ионов |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |