Методами фізичного матеріялознавства вивчено вплив додаткового (верхнього) шару Ag з низькою поверхневою енергією (≅≅ 1,83 Дж/м₂) в плівках Ag (0; 7,5 нм)/Fe₅₀Pt₅₀ (15 нм) на підкладинках SiO₂ (100 нм)/Si(001) на процеси дифузійного формування фази L1₀, її структурні та магнетні властивості при відпалах у вакуумі у 1,3⋅⋅1033 Па в температурному інтервалі 300–900°С тривалістю 30 с.
Методами физического материаловедения изучено влияние дополнительного (верхнего) слоя Ag с низкой поверхностной энергией (≅≅ 1,83 Дж/м₂) в плёнках Ag (0; 7,5 нм)/Fe5₅₀Pt₅₀ (15 нм) на подложках SiO₂ (100 нм)/Si(001) на процессы диффузионного формирования фазы L1₀, её структурные и магнитные свойства при отжигах в вакууме 1,3⋅⋅1033 Па в температурном интервале 300–900°C длительностью 30 с.
The influence of an additional Ag top layer with low surface energy (≅≅ 1.83 J/m₂) in films Ag (0; 7.5 nm)/Fe₅₀Pt₅₀0 (15 nm) on SiO₂ (100 nm)/Si(001) substrates on diffusion processes of the L1₀-phase formation, its structural and magnetic properties after annealing in vacuum 1.3⋅⋅1033 Pa at 300–900°C for 30 s is studied by physical materials science methods.