Перегляд Технология и конструиров. в электронной аппаратуре, 1999, № 5-6 за темою "Технологические процессы"
-
Короткевич, А.В.; Плешкин, В.А.
(Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 1999)
Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ.
-
Данилов, В.В.
(Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 1999)
Исключение влияния испаряемых материалов на работоспособность узлов установки позволило повысить производительность процесса в целом.