Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Vacuum method for creation of liquid crystal orienting microrelief
Репозиторій DSpace/Manakin
- Домашня сторінка
- →
- Фізико-технічні та математичні науки
- →
- Відділення фізики і астрономії
- →
- Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
- →
- Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 2003, том 6
- →
- Semicond. Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 2003, № 4
- →
- Переглянути статтю
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Vacuum method for creation of liquid crystal orienting microrelief
Інший ID:
PACS: 42.79.Kr
Посилання:
Vacuum method for creation of liquid crystal orienting microrelief / Yu. Kolomzarov, P. Oleksenko, V. Sorokin, P. Tytarenko, R. Zelinskyy // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2003. — Т. 6, № 4. — С. 528-532. — Бібліогр.: 16 назв. — англ.
Дата:
2003
Переглядів:
1164
Завантажень:
419
Анотація:
A mechanism for creation of microrelief surface anisotropy of amorphous films oxides materials which are obtained by oblique reactive cathode sputtering method is described. The influence of technological parameters of sputtering on the LC orienting parameters is investigated. The dependencies of the target material, angle of material emission and reemission processes under the substrate negative ion treatment is shown. The application of oblique reactive cathode sputtering method for creation of LCD with differ-ent size is demonstrated.
