Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Усилительные процессы в газоразрядной ячейке, состоящей из полупроводника с плазменными контактами

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Юлдашев, Х.Т.
dc.contributor.author Хайдаров, З.
dc.contributor.author Касымов, Ш.С.
dc.date.accessioned 2017-05-18T18:44:14Z
dc.date.available 2017-05-18T18:44:14Z
dc.date.issued 2016
dc.identifier.citation Усилительные процессы в газоразрядной ячейке, состоящей из полупроводника с плазменными контактами / Х.Т. Юлдашев, З. Хайдаров, Ш.С. Касымов // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2016. — Т. 1, № 3. — С. 268-273 . — Бібліогр.: 8 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 2519-2485
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/117003
dc.description.abstract В статье приводятся результаты теоретических расчетов и экспериментальных исследований вольт-амперных характеристик кристаллов арсенида галлия и теллурида кадмия с плазменными контактами в газоразрядной фотографической системе. uk_UA
dc.description.abstract У статті наводяться результати теоретичних досліджень і експериментальних досліджень вольтамперних характеристик кристалів арсеніду галію і телуриду кадмію з плазмовими контактами в газорозрядній фотографічній системі. uk_UA
dc.description.abstract The article presents the results of theoretical calculations and experimental studies of the currentvoltage characteristics of crystals of gallium arsenide and cadmium telluride contacts with a plasma gas discharge in the photographic system. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Журнал физики и инженерии поверхности
dc.title Усилительные процессы в газоразрядной ячейке, состоящей из полупроводника с плазменными контактами uk_UA
dc.title.alternative Підсилювальні процеси в газорозрядній комірці, що складається з напівпровідника з плазмовими контактами uk_UA
dc.title.alternative Amplification processes in discharge cell consisting of the semiconductor plasma clean contacts uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.393.3: 621.382: 621.385


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис