Рассмотрено влияние спин-орбитального взаимодействия на туннелирование между двумерными электронными слоями. Получено общее выражение для туннельного тока с учетом эффектов Рашбы и Дрессельхауза, а также упругого рассеяния носителей заряда на примесях. Показано, что конкретный вид зависимости туннельной проводимости от электрического напряжения между слоями чрезвычайно чувствителен к соотношению параметров Рашбы и Дрессельхауза. Это позволяет определять параметры спин-орбитального взаимодействия и квантовое время рассеяния непосредственно при измерении туннельной проводимости без внешнего магнитного поля.
 
Розглянуто вплив спін-орбітальної взаємодії на тунелювання між двовимірними електронними
 шарами. Отримано загальний вираз для тунельного струму з урахуванням ефектів Рашби та Дрессельхауза, а також пружного розсіювання носіїв заряду на домішках. Показано, що конкретний вид залежності тунельної провідності від електричної напруги між шарами надзвичайно чутливий до співвідношення параметрів Рашби та Дрессельхауза. Це дозволяє визначати параметри спін-орбітальної
 взаємодії та квантовий час розсіювання безпосередньо при вимірі тунельної провідності без зовнішнього магнітного поля.
 
The influence of spin-orbit interaction on the
 tunneling between two 2D electron layers is considered.
 A general expression for tunneling current
 is obtained with account for Rashba and Dresselhaus
 effects and elastic scattering by impurities. It
 is demonstrated that a particular dependence of
 tunneling conductance on external voltage is very
 sensitive to the relation between Rashba and Dresselhaus
 contributions. This makes it possibile to
 determine the parameters of spin-orbit interaction
 and electron quantum lifetime just when measuring
 the on tunneling between low-dimensional electron
 layers without any external magnetic field.