В работе проведён квантово-механический количественный анализ возможностей повышения чувствительности и информативности картины многократного рассеяния к несовершенствам структуры кристаллов за счёт использования дисперсионных эффектов колоссального усиления структурно чувствительных зависимостей дифракционной картины от различных условий дифракции. Установлено появление за счёт дисперсионного механизма эффектов взаимосвязанности указанных зависимостей картины от различных условий между собой и с зависимостями от характеристик дефектов и в результате изменения избирательности чувствительности этих зависимостей к дефектам какого-либо типа при вариации условий дифракции. Это существенно расширило возможности применения целенаправленно комбинированной обработки дифрактометрических данных в различных условиях дифракции для повышения информативности многопараметрической диагностики.
У роботі проведено квантово-механічну кількісну аналізу можливостей підвищення чутливости й інформативности картини багаторазового розсіяння до недосконалостей структури кристалів через використання дисперсійних ефектів колосального посилення структурно чутливих залежностей дифракційної картини від різних умов дифракції. Встановлено появу через дисперсійний механізм ефектів взаємопов’язаности зазначених залежностей картини від різних умов між собою та із залежностями від характеристик дефектів і в результаті зміни вибірковости чутливости цих залежностей до дефектів якогось типу при варіяції умов дифракції. Це істотно розширило можливості застосування цілеспрямовано комбінованого оброблення дифрактометричних даних у різних умовах дифракції для підвищення інформативности багатопараметричної діягностики.
In this work, the quantum-mechanical quantitative analysis of features to increase the sensitivity and informativeness of multiple-scattering pattern to the imperfections of the crystal structure due to the use of dispersion effects of enormous diffraction-pattern structure dependence gain on various diffraction conditions are performed. The effects of interconnection of these patterns dependences on various diffraction conditions between themselves and with dependences on the defects’ characteristics and the changes in the selective sensitivity to the defects under variation of diffraction conditions are revealed. As shown, these effects are caused by dispersion mechanism. That substantially increases the possibilities of using the purposefully combined diffractometric data given at various diffraction conditions to increasing the informativeness of multiparametric diagnostics.