Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Semenyuk, V.F. |
|
dc.contributor.author |
Virko, V.F. |
|
dc.contributor.author |
Korotash, I.V. |
|
dc.contributor.author |
Osipov, L.S. |
|
dc.contributor.author |
Polotsky, D.Yu. |
|
dc.contributor.author |
Rudenko, E.M. |
|
dc.contributor.author |
Slobodyan, V.M. |
|
dc.contributor.author |
Shamrai, K.P. |
|
dc.date.accessioned |
2017-01-17T20:14:46Z |
|
dc.date.available |
2017-01-17T20:14:46Z |
|
dc.date.issued |
2013 |
|
dc.identifier.citation |
Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system / V.F. Semenyuk, V.F. Virko, I.V. Korotash, L.S. Osipov, D.Yu. Polotsky, E.M. Rudenko,V.M. Slobodyan, K.P. Shamrai // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 179-182. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
1562-6016 |
|
dc.identifier.other |
PACS: 52.50.Dg; 52.50.Qt. |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112183 |
|
dc.description.abstract |
In experiments on two helicon sources driven by a planar antenna, it is shown that the plasma density in the drift chamber and the energies and density of the ion flux onto the substrate holder can be effectively controlled by changing the local magnetic field and the holder potential. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Експериментами на двох геліконних джерелах з плоскою збуджуючою антеною показано, что густиною плазми в дрейфовій камері та енергіями і густиною іонного потоку на підкладинкотримач можна ефективно керувати зміненням локального магнітного поля і потенциалу тримача. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Экспериментами на двух геликонных источниках с плоской возбуждающей антенной показано, что плотностью плазмы в дрейфовой камере и энергиями и плотностью ионного потока на подложкодержатель можно эффективно управлять изменением локального магнитного поля и потенциала держателя. |
uk_UA |
dc.description.sponsorship |
This work was performed by the joint project
№ 5713 of the National Academy of Sciences of
Ukraine and the Science and Technology Center in
Ukraine. |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Вопросы атомной науки и техники |
|
dc.subject |
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия |
uk_UA |
dc.title |
Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Керування параметрами, що визначають технологічні властивості геликонної розрядної системи |
uk_UA |
dc.title.alternative |
Управление параметрами, определяющими технологические свойства геликонной разрядной системы |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті