Влияние модификации поверхности сапфира при ионном облучении на выход возбужденных частиц

Abstract

Определены основные параметры ионно-фотонной эмиссии (спектральный состав, квантовый выход, пространственное распределение и дозовые зависимости излучения выбитых возбужденных частиц) при бомбардировке сапфира ионами Ar+. Показано, что для сапфира проявляется дополнительный, в сравнении с металлом, механизм образования возбужденных частиц. Формирование возбужденных частиц при отлете от поверхности существенным образом зависит от её физико-химического состояния. Исследование основных параметров ионно-фотонной эмиссии может быть использовано для оценки степени аморфизации поверхности под действием ионной бомбардировки.

Визначені основні параметри іонно-фотонної емісії (спектральний склад, квантовий вихід, просторовий розподіл і дозові залежності випромінювання вибитих збуджених частинок) під час бомбардування сапфіру іонами Ar+. Показано, що для сапфіру проявляється додатковий в порівнянні з металом механізм утворення збуджених частинок. Формування збуджених частинок при відльоті від поверхні істотним чином залежить від її фізико-хімічного стану. Дослідження основних параметрів іонно-фотонної емісії може бути використано для оцінки ступеня аморфізації поверхні внаслідок іонного бомбардування.

The main parameters of the ion-photon emission (spectral composition, quantum yield, the spatial distribution and the dose dependences of the radiation of sputtered excited particles) at the bombardment of sapphire by ions Ar+, are considered in this work. It is shown that for sapphire there are an additional mechanism compare with pure metal formation of excited particles. Formation of excited particles flying away from the surface depends strongly on its physical-chemical state. The investigation of main parameters of IFE can be used to assess the degree of amorphization of the surface due to ion bombardment.