Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2007
→
Вопросы атомной науки и техники, 2007, № 1
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Pugatch, V.M.
dc.contributor.author	Perevertaylo, V.L.
dc.contributor.author	Fedorovich, O.A.
dc.contributor.author	Borisenko, A.G.
dc.contributor.author	Kostin, E.G.
dc.contributor.author	Kruglenko, M.P.
dc.contributor.author	Polozov, B.P.
dc.contributor.author	Tarasenko, L.I.
dc.date.accessioned	2017-01-04T17:08:13Z
dc.date.available	2017-01-04T17:08:13Z
dc.date.issued	2007
dc.identifier.citation	Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.other	PACS: 52.77.Bn, 81.65.Cf, 85.40.-e, 85.40.Hp
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110503
dc.description.abstract	The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in comparison with a wet chemical etching, problems arising and possible ways of their elimination are presented.	uk_UA
dc.description.abstract	Приведено детальний опис технології виготовлення елементів мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання (МСМД) з застосуванням плазмохімічного травлення багатошарових структур. Представлено результати застосування плазмохімічної технології виготовлення МСМД, її переваги перед хімічним травленням, а також виникаючі при цьому проблеми та можливі шляхи їх усунення.	uk_UA
dc.description.abstract	Приводится подробное описание изготовления элементов микростриповых металлических детекторов (МСМД) ионизирующих излучений с использованием плазмохимической технологии травления многослойных структур. Показаны результаты использования плазмохимии в технологии изготовления МСМД, её преимущества в сравнении с применением химического травления, а также возникающие при этом проблемы и возможные пути их устранения.	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Low temperature plasma and plasma technologies	uk_UA
dc.title	Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation	uk_UA
dc.title.alternative	Плазмові технології виготовлення мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання	uk_UA
dc.title.alternative	Плазменные технологии изготовления микростриповых металлических детекторов ионизирующих излучений	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA