Радиационные технологии модификации поверхности. I. Ионная очистка и высокодозовая имплантация

dc.contributor.author	Белоус, В.А.
dc.contributor.author	Лапшин, В.И
dc.contributor.author	Марченко, И.Г.
dc.contributor.author	Неклюдов, И.М.
dc.date.accessioned	2016-06-08T10:47:59Z
dc.date.available	2016-06-08T10:47:59Z
dc.date.issued	2003
dc.identifier.citation	Радиационные технологии модификации поверхности. I. Ионная очистка и высокодозовая имплантация / В.А. Белоус, В.И Лапшин, И.Г. Марченко, И.М. Неклюдов // Физическая инженерия поверхности. — 2003. — Т. 1, № 1. — С. 40-48. — Бібліогр.: 28 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	1999-8074
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/101838
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Физическая инженерия поверхности
dc.title	Радиационные технологии модификации поверхности. I. Ионная очистка и высокодозовая имплантация	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA