http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7855 Thu, 09 Apr 2026 05:31:32 GMT 2026-04-09T05:31:32Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/bitstream/id/88999/ http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7855 http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7984 Малоенергоємні плазмові технологічні системи з розрядами у комбінованих електричному та магнітному полях Фаренік, В.І. У цьому огляді наводяться результати наукових досліджень та прикладних розробок, виконаних у ХНУ імени В.Н. Каразіна НФТЦ МОН та НАН України з середини 70-х років до початку 90-х у галузі фізичних основ плазмових технологій для мікроелектроніки.; В этом обзоре приводятся результаты научных исследований и прикладных разработок, выполненных в ХНУ имени В.Н. Каразина и НФТЦ МОН и НАН Украины с середины 70-х годов до начала 90-х в области физических основ плазменных технологий для микроэлектроники.; In this review the findings of research investigations and applied developments made in both V.N. Karazin KNU and SCPT MES & NAS Ukraine from the end 70 up to the end 90 in the field of a basic physics of plasma technologies for micro- and nanoelectronics are presented. Thu, 01 Jan 2009 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7984 2009-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7983 Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур Дудин, С.В. В обзоре обобщаются результаты экспериментальных исследований ВЧ индукционного разряда, полученные в течение последних лет, представлены математические модели разряда, позволяющие повысить эффективность разработки нового плазменного технологического оборудования. Особое внимание уделяетя однородности потока ионов из плазмы на обрабатываемую поверхность. Кроме того, описана конструкция плазмохимического реактора, основанного на ВЧ индукционном разряде, и изложены результаты разработки современных технологических процессов травления наноструктур с его помощью.; У огляді узагальнюються результати експериментальних досліджень ВЧ індукційного розряду, одержані протягом останніх років, представлені математичні моделі розряду, що дозволяють підвищити ефективність розробки нового плазмового технологічного обладнання. Особлива увага приділяється однорідності потоку іонів із плазми на оброблювану поверхню. Крім того, описана конструкція плазмохімічного реактора, заснованого на ВЧ індукційному розряді, і викладені результати розробки сучасних технологічних процесів травління наноструктур із його допомогою.; In the review results of experimental researches of RF ICP, carried out for the last few years are summarized, mathematical models of the discharge are presented, allowing to increase efficiency of development of the new plasma process equipment. Special attention is paid to homogeneity of ion current from the plasma to the processed surface. Besides the construction of plasma-chemical reactor based on RF ICP is described, and results of development of modern technological processes of nanostructure etching are presented. Thu, 01 Jan 2009 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7983 2009-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7982 Синтез діелектричних сполук на базі магнетрону постійного струму Зиков, О.В.; Яковін, С.Д.; Дудін, С.В. В роботі представлено результати розробки та дослідження технологічного модуля для реактивного синтезу складнокомпозіційних сполук типу оксидів та оксинітридів на базі магнетронного та ВЧ індукційного розрядів. Основна ідея технології полягає в сепарації двох процесів: розпилення металевої мішені за допомогою магнетрона постійного струму в інертному газі та активації реактивного газу за допомогою додаткового джерела плазми на базі ВЧ індукційного розряду з подальшим транспортуванням частинок активованого газу безпосередньо до області синтезу.; В работе представлены результаты разработки и исследования технологического модуля для реактивного синтеза сложнокомпозиционных соединений типа оксидов и оксинитридов на базе магнетронного и ВЧ индукционного разрядов. Основная идея технологии заключается в сепарации двух процессов: распыления металлической мишени с помощью магнетрона постоянного тока в инертном газе и активации реактивного газа с помощью дополнительного источника плазмы на основе ВЧ индукционного разряда с дальнейшей транспортировкой частиц активированного газа непосредственно к области синтеза.; The results of development and research of a technological module for reactive synthesis of complex composite coatings like oxides and nitrides based on DC magnetron and RF inductive discharges are presented in the paper. The basic idea of technology consists in separation of two processes: metal target sputtering using DC magnetron in rare gas and activation of reactive gas by means of additional plasma source based on RF inductive discharge with further transportation of particles of the activated gas immediately to the surface of synthesis. Thu, 01 Jan 2009 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7982 2009-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7981 Радиальная структура продольного комбинированного разряда в SF6 Лисовский, В.А.; Харченко, Н.Д. Данная работа посвящена экспериментальному изучению влияния высокочастотного электрического поля на радиальные зависимости плотности тока ионов разряда постоянного тока, а также постоянного напряжения на радиальные зависимости плотности тока высокочастотного разряда. В разрядной камере, содержащей электрод с коллекторами, экспериментально измерены радиальные зависимости плотности ионного тока продольного комбинированного разряда (высокочастотное и постоянное электрическое поля прикладываются к одним и тем же электродам) для разных давлений SF6, а также вольтамперные характеристики разряда. Определены оптимальные условия для проведения технологических процессов, используя комбинированный разряд в SF6.; Цю роботу присвячено експериментальному вивченню впливу високочастотного електричного поля на радіальні залежності густини струму іонів розряду постійного струму, а також постійної напруги на радіальні залежності густини струму високочастотного розряду. В розрядній камері, що містить у собі катод з колекторами, були експериментально виміряні радіальні залежності густини струму поздовжнього комбінованого розряду (високочастотне та постійне електричні поля прикладались до одних і тих самих електродів) для різних тисків SF6, а також вольтамперні характеристики розряду. Визначені оптимальні умови для проведення технологічних процесів, що використовують розряд в SF6.; This work is devoted to experimental study of the radio frequency (RF) electric field influence to the radial ion current density profiles of the direct current (DC) discharge, and the DC voltage influence to the radial ion current density profiles of the RF discharge. In the discharge chamber, which includes electrode with collectors radial ion current density profiles of the longitudinal combined discharge (RF and DC electric fields were applied to the same electrodes) were measured experimentally for different SF6 pressures, and also current-voltage characteristics of the discharge were obtained. The optimal conditions for plasma technologies using combined discharge in SF6 were defined. Thu, 01 Jan 2009 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7981 2009-01-01T00:00:00Z