http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7851 Fri, 17 Apr 2026 16:31:21 GMT 2026-04-17T16:31:21Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/bitstream/id/88995/ http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7851 http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7872 Структура и свойства покрытия из Ni-Cr-B-Si-Fe/WC-Co, нанесенного на подложку из стали и меди Погребняк, А.Д.; Братушка, С.Н.; Углов, В.В.; Дуб, С.Н.; Колисниченко, О.В.; Алонцева, Д.Л.; Тюрин, Ю.Н.; Шипиленко, А.Н. Разработан новый тип покрытия, состав которого представляет механическую смесь двух разных порошков ПГ-19Н-01 (Ni-Cr-B-Si-Fe) и WC-Co (твердый сплав). Покрытия наносились с помощью двух технологий: детонационным и плазменно-детонационным способом на подложку из ст. 3 и технической меди (99,98 Cu). Толщина покрытия составляла 150 – 200 мкм. В дальнейшем часть образцов с покрытием оплавлялась плазменной струей на глубину 40 – 60мкм. В результате обработки обнаружено формирование в покрытии таких фаз: WC, α-CrCo, Co, Ni, Cr3Ni2, а после оплавления обнаружено появление фазы γ-(Fe, Ni). Показано, что оплавление плазменной струей приводит к более равномерному распределению твердости по поверхности, меньшему уносу материала при трении цилиндра по поверхности. Обнаружено перераспределение элементов в верхнем слое покрытия в результате плавления плазменной струей.; Розроблено новий тип покриття, склад якого представляє механічну суміш двох різних порошків – ПГ-19Н-01 (Ni-Cr-B-Si-Fe) та WC-Co (твердий сплав). Покриття було нанесено детонаційним і плазмово-детонаційним способом на підкладки із ст. 3 і технічної міді (99,98 Cu). Товщина покриття складала 150 – 200 мкм. У подальшому частина зразків з покриттям оплавлялася плазмовим струменем на глибину 40 – 60 мкм. В результаті обробки виявлено формування в покритті фаз WC, α-CrCo, Co, Ni, Cr3Ni2, а після оплавлення виявлено появу фази γ-(Fe, Ni). Показано, що оплавлення плазмовим струменем призводить до більш рівномірного розподілу твердості по поверхні, меншому винесенню матеріала при терті циліндра по поверхні. Виявлено перерозподіл елементів у верхньому шарі покриття в результаті плавлення плазмовим струменем.; A new kind of coating containing mechanical blend of the two powders- (Ni-Cr-B-Si-Fe) and Wc-Co (Hard Alloy) has been developed. The coating was deposited by two techniques using. Detonation technology and plasma-detonation technology, the thckness being of 150 – 200 mkm on the steel 3 substrate( 0.3 wt.%C) and technical copper 99.98. A part of samples with Ni-WC-Co(Cr,B,Si,Fe) coatings then we treated with plasma jet in the melting regime of 40 – 60 mkm depth. The coating deposition was carried out on an Impulse-6 set with the parameters which have been well describe. The structure and properties study of the coating was carried out with the aid SEM microscopy with microanalysis (EDS),diffraction a X-rays(XRD). The hardness was studied with nanoindentor (Nanoindentor-11,USA) and RBS of ions and protons (E-2.02 MeV). The following phases were found in the coating: CoCr, Co,Ni, Cr3Ni2, FeNi phase appeared after plasma jet treating. The additional effect on the coating with plasma jet results in more regular hardness distribution on the surface,less materil ablation under friction and increasing hardness nearly of 50% compared with the PG-19N-01 coating. Redistribution of elements in the coating. Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7872 2008-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7871 Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы Шулаев, В.М.; Андреев, А.А.; Столбовой, В.А.; Прибытков, Г.А.; Гурских, А.В.; Коростелева, Е.Н.; Коржова, В.В. Представлены результаты экспериментов по синтезу Ti-Si-N покрытий при их осаждении из многокомпонентной плазмы вакуумно-дугового разряда на подложки из нержавеющей стали и медной фольги. Полученные наноструктурные Ti-Si-N покрытия являются метастабильными пересыщенными твердыми растворами кремния в кубической фазе нитрида титана. Вакуумнодуговому испарению подвергались спеченные порошковые TiSi катоды. Материал двухфазного катода состоял из твердого раствора замещения кремния в титане α-Ti(Si) и силицида титана Ti5Si3. Обнаружено, что концентрация кремния в синтезируемых Ti-Si-N покрытиях и эмитируемых макрочастицах значительно ниже содержания кремния в TiSi катодах. Этот эффект связан с неоднородной эрозией катодным пятном вакуумной дуги материала катода. Интенсивная генерация плазменных струй и эмиссия макрочастиц происходят преимущественно на зернах α-Ti(Si) фазы.; Представлені результати експериментів із синтезу Ti-Si-N покриттів при їх осадженні з багатокомпонентної плазми вакуумно-дугового розряду на підкладинку з нержавіючої сталі й мідної фольги. Отримані наноструктурні Tі-Sі-N покриття є метастабільними пересиченими твердими розчинами кремнію в кубічній фазі нітриду титану. Вакуумно-дуговому випаруванню піддавалися спечені порошкові TіSі катоди. Матеріал двох-фазового катода складався із твердого розчину заміщення кремнію в титані α-Tі(Sі) і силіциду титану Tі5Sі3. Виявлено, що концентрація крем-нію в синтезованих Ті-Sі-N покриттях і емітованих макрочастинках значно нижче змісту кремнію в TіSі катодах. Цей ефект пов’язаний з неоднорідною ерозією катодної плями вакуумної дуги матеріалу катода. Інтенсивна генерація плазмових струменів і емісія макрочасток відбуваються головним чином на зернах α-Tі(Sі) фази.; Presented are results of experiments on synthesis Ti-Si-N coatings deposited from multi-component vacuum-arc plasma at substrates of stainless steel and copper foils. Obtained nano-structure Ti-Si-N films are meta-stable oversaturated solution of silicon within cubic phase of titanium nitride. The sintered powder TiSi cathodes were subjected to vacuum-arc evaporation. Two-phase cathode was consisted of Si substitution solution within titanium α-Ti(Si) and titanium silicide Ti5Si3. It has been found that silicon concentration within synthesized Ti-Si-N coatings and emitted macro-particles is significantly less than silicon concentration in TiSi cathodes. This effect is due to non-uniform erosion of cathode material with cathode spot of vacuum arc. The intensive generation of plasma streams and macro-particles emission occurs presumably on the α-Ti(Si) – phase grains. Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7871 2008-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7870 Нанокомпозитные покрытия на основе нитридов переходных металлов Дробышевская, А.А.; Сердюк, Г.А.; Фурсова, Е.В.; Береснев, В.М. Представлен краткий обзор основных наиболее перспективных и широко применяемых в различных отраслях науки и техники нанокомпозитных покрытий, полученных на основе нитридов переходных металлов. Проведен сравнительный анализ их физико-механических свойств в зависимости от соотношений компонентов покрытий, условий и методов нанесения.; Представлено короткий огляд основних найбільш перспективних нанокомпозитних покриттів, отриманих на основі нітридів перехідних металів, що широко застосовуються в різних галузях науки і техніки. Проведено порівняльний аналіз їх фізико-механічних властивостей в залежності від співвідношень компонентів покриттів, умов і методів нанесення.; The review of the most perspective nanocomposite coatings obtained on the basis of transition metals nitrides which widely applicable in different branches of science and engineering is presented. The comparative analysis of their physical and mechanical properties depending on components of coatings ratio, conditions and methods of deposition is carried out. Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7870 2008-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7869 Высокопористые плазменно-дуговые покрытия вольфрама: технология изготовления и эрозионные свойства Глазунов, Г.П.; Андреев, А.А; Барон, Д.И.; Бондаренко, М.Н.; Конотопский, А.Л.; Неклюдов, И.М.; Шулаев, В.М. Разработана технология изготовления вакуумно-дуговым методом высокопористых наноструктурных W пленок с малым размером пор и исследовано их эрозионное поведение при воздействии стационарной, достаточно плотной низкотемпературной плазмы. Показано, что зависимость скорости эрозии от атомного номера рабочего газа хорошо согласуется с расчетными данными по уравнению для ионного распыления, а абсолютная величина скорости эрозии для высокопористых пленок W практически совпадает с таковой для массивных образцов W.; Розроблена технологія виготовлення вакуумнодуговим методом високопористих, наноструктурних W плівок з малим розміром пір і досліджена їх ерозійна поведінка при дії стаціонарної, достатньо щільної низькотемпературної плазми. Показано, що залежність швидкості ерозії від атомного номера робочого газу добре узгоджується з розрахунковими даними по рівнянню для іонного розпилювання, а абсолютна величина швидкості ерозії для високопористих плівок W практично співпадає з такою для масивних зразків W.; The technology has been developed for high porous nanostructure W films production with vacuum-arc method. Erosion behavior of such coatings was studied under impact of steady state, dense enough low temperature plasma. It has been shown that the erosion rate dependences on working gas atomic number are in a good agreement with the calculated data for ion sputtering, and the absolute values of erosion rate for high porous W films agree closely with the one for bulk tungsten. Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/7869 2008-01-01T00:00:00Z