<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rss xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/" version="2.0">
<channel>
<title>Вопросы атомной науки и техники, 2010, № 1</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/14768</link>
<description/>
<pubDate>Tue, 14 Apr 2026 19:27:43 GMT</pubDate>
<dc:date>2026-04-14T19:27:43Z</dc:date>
<image>
<title>Вопросы атомной науки и техники, 2010, № 1</title>
<url>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/bitstream/id/41191/</url>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/14768</link>
</image>
<item>
<title>Памяти Владимира Михайловича Ажажи</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15674</link>
<description>Памяти Владимира Михайловича Ажажи
</description>
<pubDate>Fri, 01 Jan 2010 00:00:00 GMT</pubDate>
<guid isPermaLink="false">http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15674</guid>
<dc:date>2010-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item>
<title>Комплекс аппаратных средств для изучения воздействия на материалы импульсного разряда в газовых и жидкостных средах</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15673</link>
<description>Комплекс аппаратных средств для изучения воздействия на материалы импульсного разряда в газовых и жидкостных средах
Гольченко, В.П.; Боев, С.Г.; Гамов, В.О.
Разработан прибор с возможностью широкодиапазонной регуляции периода и длительности импульса. Измерительный комплекс позволяет с высокой точностью регистрировать и протоколировать данные.; Розроблено прилад з можливістю широкодіапазонного регулювання періоду й тривалості імпульсу. Вимірювальний комплекс дозволяє з високою точністю реєструвати й протоколювати дані.; A device with the possibility of wide-range adjustment period and pulse duration is developed. Measuring complex allows the accurate recording and data logging.
</description>
<pubDate>Fri, 01 Jan 2010 00:00:00 GMT</pubDate>
<guid isPermaLink="false">http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15673</guid>
<dc:date>2010-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item>
<title>Повышение концентрации радона и продуктов его раcпада в зоне электрического разряда в различных средах – источник ложных эффектов наведенной радиоактивности</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15672</link>
<description>Повышение концентрации радона и продуктов его раcпада в зоне электрического разряда в различных средах – источник ложных эффектов наведенной радиоактивности
Зеленский, В.Ф.; Гамов, В.О.; Гольченко, В.П.; Боев, С.Г.; Рыжов, В.П.
Показано, что в ряде случаев при работе с электрическим разрядом в различных средах появление радиоактивности и следов гелия может быть следствием повышения в зоне разряда концентрации природного радона ²²²Rn и продуктов его распада.; Показано, що в ряді випадків при роботі з електричним розрядом у різних середовищах поява радіоактивності і слідів гелію може бути наслідком підвищення в зоні розряду концентрації природного радону ²²²Rn і продуктів його розпаду.; It is shown that in some cases when working with electrical discharges in different environments the appearance of radioactivity and helium traces may be a result of increase concentration of ²²²Rn natural radon and its decay products in the discharge area.
</description>
<pubDate>Fri, 01 Jan 2010 00:00:00 GMT</pubDate>
<guid isPermaLink="false">http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15672</guid>
<dc:date>2010-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item>
<title>Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15671</link>
<description>Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
Марченко, Ю.А.; Перун, Н.В.; Сасса, И.В.; Ванжа, А.Ф.
Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда.; Описано конструкція та особливості плазмового розряду джерела іонів з катодом, що підігрівається, який призначено для використання на технологічній установці іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2. Приведені залежності струму пучка від параметрів розряду.; Construction and structural features of plasma discharge of ions source with heated cathode is described. This source intended is used in technological plant ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings. Dependences of beam current on the discharge parameters are presented.
</description>
<pubDate>Fri, 01 Jan 2010 00:00:00 GMT</pubDate>
<guid isPermaLink="false">http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15671</guid>
<dc:date>2010-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
</channel>
</rss>
