http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12756 Sun, 05 Apr 2026 16:16:16 GMT 2026-04-05T16:16:16Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/bitstream/id/112955/ http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12756 http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12766 Влияние механической активации гидрида титана на его взаимодействие с азотом и кислородом Савяк, М.П.; Людвинская, Т.А.; Тимофеева, И.И.; Исаева, Л.П.; Муратов, В.Б.; Литвиненко, В.Ф.; Головко, Н.В.; Уварова, И.В. Показано, что размол гидрида титана в планетарной мельнице приводит к повышению удельной поверхности порошка, росту микроискажений кристаллической решетки, уменьшению содержания в нем водорода и повышению химической активности, что позволяет получать нитрид титана из него в среде азота уже при температуре 500 °С. За счет кислорода, адсорбирован ного механически активированным порошком при нагревании в атмосфере азота, происходят реакции окисления атомов титана, в результате чего образуется низший оксид Tі2О.; Показано, що подрібнення гідриду титану в планетарному млині приводить до підвищення питомої поверхні порошку, зростанню дефектів кристалічної ґратки, зменшенню вмісту в ній водню і підвищенню хімічної активності. Це дає змогу досягти повного перетворення механічно активованого гідриду в нітрид титану вже за температури 500 °С і витримці упродовж однієї години в середовищі азоту. За рахунок кисню, адсорбованого механічно активованим порошком при нагрівання в атмосфері азоту, проходять реакції окиснення, в результаті чого утворюється нижчий оксид Ti2O.; Milling of titanium hydride in planetary mill is shoun to increase the speci surface area of powder, to decrease the hydrogen content in it and to intensity chemical activity. This makesit possible to obtain titanium nitride from the titanium hydride in a nitrogen atmosphere at as low temperature as 500 °C . Thanks to the presence of oxygen adsorbed by mechanically activated powder under heating in a nitrogen atmosphere? Reaction of intramolecular oxidation -reduction, of titanium takes place, which results in forming the lower oxide Ti2O. Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12766 2008-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12765 Влияние значения рН среды на формирование структур в системе Fe0-H2O-O2 Прокопенко, В.А.; Лавриненко, Е.Н.; Мамуня, С.В.; Буданкова, С.Н. В статье изложены результаты исследования процессов образования железокислородных структур в системе Fe0 — H2O — O2 в диапазоне значений рН дисперсионной среды от 1 до 12. В зависимости от формы нахождения катионов железа в дисперсионной среде выделены пять диапазонов значений рН, для которых описаны основные реакции фазообразовательного процесса и схемы фазовых трансформаций. Определены оптимальные значения рН формирования каждой модификации оксидов и моногидратов железа, которые образуются в системе Fe0 — H2O — O2.; У статті викладено результати вивчення процесів утворення залізокисневих структур у системі Fe0 — H2O — O2 в діапазоні значень рН дисперсійного середовища від 1 до 12. Залежно від форми знаходження катіонів заліза в дисперсійному середовищі виділено п’ять діапазонів значень рН, для яких проведено опис головних реакцій процесу фазоутворення та схем фазових перетворень. Визначені оптимальні значення рН формування кожної модифікації оксидів і моногідратів заліза, які утворюються в системі Fe0 — H2O — O2.; The work deals with the performed investigation of the processes for the formation of the iron- oxygen structures in the system Feo—H2O—O2 in the range of the pH values of dispersion medium from 1 to 12. Five ranges of the pH values for which the main reactions of phase formation process and the schemes of phase transformations have been described depending on iron cation form being in dispersion medium. The optimal pH values of the formation of every modification of iron oxides and monohydrates, which are formed in the system Feo— H2O—O2 have been determined. Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12765 2008-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12764 Структурные изменения при отжиге в композиционных пленках системы углерод – медь Оноприенко, А.А.; Даниленко, Н.И.; Косско, И.А. Тонкая легированная медью (8 %, атомная доля Cu) углеродная пленка нанесена магнетронным распылением на постоянном токе в аргоновой плазме составной (графит+медь) мишени на подложку из монокристаллического (100) NaCl при комнатной температуре. Эволюция микроструктуры пленки при отжиге в вакууме при 600 °С исследована методами просвечивающей электронной микроскопии и электронографии. Осажденная пленка была аморфной с равномерным распределением атомов меди в объеме пленки. Отжиг привел к образованию ансамбля медных частиц в пленке с последующей их коалесценцией по диффузионному механизму, в результате чего плотность частиц уменьшалась, а их средний размер увеличивался со временем отжига. Коалесценция осуществлялась путем смешанного механизма объемной и поверхностной диффузии атомов меди в углеродной пленке, содержащей большое количество структурных дефектов, вследствие чего средний размер частиц в ансамбле изменялся по закону R^5 ~ t; Тонка легована міддю (8 %, атомна частка Cu) вуглецева плівка нанесена магнетронним розпиленням на постійному струмі в аргоновій плазмі складової (графіт + мідь) мішені на підкладку з монокристалічного (100) NaCl за кімнатної температури. Еволюція мікроструктури плівки при відпалі у вакуумі при 600 °С досліджена методами просвітлювальної електронної мікроскопії та електронографії. Нанесена плівка була аморфною з рівномірним розподілом атомів міді в об’ємі плівки. Відпал призвів до утворення ансамблю мідних частинок у плівці з наступною їх коалесценцією за дифузійним механізмом, у результаті чого щільність частинок зменшувалась, а їх середній розмір зростав із часом відпалу. Коалесценція відбувалася шляхом змішаного механізму об’ємної та поверхневої дифузії атомів міді у вуглецевій плівці, яка вміщувала велику кількість структурних дефектів, унаслідок чого середній розмір частинок в ансамблі змінювався за законом R^5 ~ t.; Thin copper-doped (8 at. % Cu) carbon film was deposited by d. c. magnetron sputtering of composite graphite/copper target in argon plasma. The evolution of film structure on annealing at 600 °C in a vacuum has been studied by transmission electron microscopy and electron diffraction. The as-deposited film was amorphous with copper atoms uniformly distributed over the film volume. Annealing resulted in precipitation of copper particles within carbon film and accompanied by changes in the ensemble of copper particles due to diffusion coalescence: the density of copper particles decreased and particle average size increased with annealing time. The coalescence occurred by the mixed mechanism of bulk and surface diffusion of copper atoms within carbon film that contained a large number of structural defects. As a result, the mean radius of copper particles in ensemble changed as R^5 ~ t. Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12764 2008-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12763 Механические свойства аморфных и нанокристаллических пленок кремния и карбида кермния Куликовский, В.Ю.; Ворличек, В.; Богач, П.; Страйнянек, М.; Чтвертлик, Р.; Курдюмов, А.В.; Горбань, В.Ф. Робота присвячена вивченню механічних властивостей аморфних і нанокристалічних плівок Si та SiC, одержаних за різних режимів магнетронного розпилювання, і порівнянню цих характеристик з такими самими характеристиками їх монокристалічних аналогів. Установлено, що твердість і модуль пружності всіх аморфних а-SiC плівок завжди нижче, ніж у масивного α-SiC монокристала, в той час як твердість нанокристалічних SiC плівок вище, а модуль пружності нижче, ніж у монокристала. На відміну від SiC, твердість і модуль Юнга всіх аморфних Si плівок завжди менший, ніж у полікристалічної плівки і монокристала Si(111), для яких значення цих характеристик практично однакові. Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/12763 2008-01-01T00:00:00Z