<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rss xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/" version="2.0">
<channel>
<title>Физика низких температур, 2008, № 01</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116158</link>
<description/>
<pubDate>Sat, 11 Apr 2026 11:24:29 GMT</pubDate>
<dc:date>2026-04-11T11:24:29Z</dc:date>
<image>
<title>Физика низких температур, 2008, № 01</title>
<url>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/bitstream/id/345445/</url>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116158</link>
</image>
<item>
<title>Кинетика абсорбции и десорбции водорода в монокристаллах фуллерита С₆₀. Низкотемпературные микромеханические и структурные характеристики твердого раствора внедрения С₆₀(Н₂)x</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116776</link>
<description>Кинетика абсорбции и десорбции водорода в монокристаллах фуллерита С₆₀. Низкотемпературные микромеханические и структурные характеристики твердого раствора внедрения С₆₀(Н₂)x
Фоменко, Л.С.; Лубенец, С.В.; Нацик, В.Д.; Стеценко, Ю.Е.; Яготинцев, К.А.; Стржемечный, М.А.; Прохватилов, А.И.; Осипьян, Ю.А.; Изотов, А.Н.; Сидоров, Н.С.
При комнатной температуре измерены зависимости микротвердости HV и параметра решетки a&#13;
монокристаллов C₆₀ от времени насыщения водородом t при нескольких значениях температуры&#13;
насыщения (250, 300 и 350 °C) и фиксированном давлении водорода p = 30 атм. Кинетика абсорбции&#13;
водорода согласно измерениям HV и a описывается простым экспоненциальным законом с одним зависящим&#13;
от температуры характеристическим временем. В сильно насыщенных образцах микротвердость&#13;
повышалась в 4 раза, а параметр решетки увеличивался на 0,2 % по сравнению с исходным кристаллом&#13;
С₆₀. В интервале температур 77–300 К изучены температурные зависимости микротвердости&#13;
HV и параметра решетки a кристаллов C₆₀(H₂)x. Внедрение водорода существенно понижает температуру&#13;
ГЦК–ПК фазового перехода, а сам переход становится сильно растянутым по температуре. Зависимость&#13;
микротвердости насыщенного образца от времени выдержки на воздухе при комнатной&#13;
температуре описывается суммой двух экспонент с разными значениями характеристического времени.&#13;
Такая кинетика предположительно обусловлена двумя процессами: десорбцией водорода из образца,&#13;
что вызывает падение микротвердости, и одновременным вхождением в образец газовых примесей&#13;
из окружающего воздуха, что сопровождается упрочнением. Обсуждаются влияние молекул Н₂&#13;
на характер межмолекулярного взаимодействия в фуллерите С₆₀ и обусловленные интеркаляцией процессы&#13;
дислокационного скольжения и микроразрушения.; При кімнатній температурі виміряно залежності мікротвердості HV і параметра гратки a монокристал&#13;
ів C₆₀ від часу насичення воднем t при декількох значеннях температури насичення (250, 300&#13;
та 350 °C) і фіксованому тиску водню p = 30 атм. Кінетика абсорбції водню згідно з вимірюваннями&#13;
HV та a описується простим експоненціальним законом з одним характеристичним часом, який залежить&#13;
від температури. В сильно насичених зразках мікротвердість збільшувалась в 4 рази, а параметр&#13;
гратки змінювався на 0,2 % у порівнянні з вихідним кристалом C₆₀. В інтервалі температур 77–300 К&#13;
вивчено температурні залежності мікротвердості HV та параметра гратки a кристалів C₆₀(H₂)x. Проникнення&#13;
водню суттєво знижує температуру ГЦК–ПК фазового переходу, а сам перехід стає сильно&#13;
разтягнутим по температурі. Залежність мікротвердості насиченого зразка від часу витримки на&#13;
повітрі при кімнатній температурі описується сумою двох експонент з різними значеннями характеристичного&#13;
часу. Така кінетика за припущенням обумовлена двома процесами: десорбцією водню із&#13;
зразка, що викликає зниження мікротвердості, і одночасним входженням у зразок газових домішок із&#13;
оточуючого повітря, що супроводжується зміцненням. Обговорюється вплив молекул Н₂ на характер&#13;
міжмолекулярної взаємодії в фулериті С₆₀ та обумовлені інтеркаляцією процеси дислокаційного ковзання&#13;
та мікроруйнування.; The room temperature values of microhardness&#13;
HV and the lattice parameter a of C₆₀ single crystals&#13;
have been measured as a function of the hydrogen saturation time t at several saturation temperatures&#13;
(250, 300, and 350 °C) and a fixed hydrogen&#13;
pressure of 30 bar. Based on the measurements of&#13;
both HV and a the hydrogen absorption kinetics can&#13;
be described by a simple exponential law with a&#13;
single temperature-dependent characteristic time.&#13;
In highly saturated samples the microhardness grew&#13;
four-fold, while the lattice parameter increased by&#13;
0.2 % compared to the pristine C₆₀ crystal. The&#13;
temperature dependence of the microhardness HV&#13;
and the lattice parameter a of the C₆₀(H₂)x crystal&#13;
was studied within the temperature range 77–300 K.&#13;
Penetration of hydrogen considerably lowers the&#13;
fcc-sc phase transition point, the transition becoming&#13;
strongly extended in temperature. The dependence&#13;
of the microhardness on the time of exposure&#13;
to atmospheric air can be described by a sum of two&#13;
exponential laws with appreciably different characteristic&#13;
times. Such a kinetics is supposedly controlled&#13;
by two processes, namely, the hydrogen desorption&#13;
from the sample, which entails a decrease&#13;
in microhardness and a simultaneous penetration&#13;
into the sample of gas impurities from the ambient&#13;
air, which is accompanied by a hardening. The effect&#13;
of H₂ molecules on the character of the molecular&#13;
interaction in fullerite C₆₀ and the intercalation-&#13;
related processes of dislocation glid and&#13;
microfracture are discussed.
</description>
<pubDate>Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT</pubDate>
<guid isPermaLink="false">http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116776</guid>
<dc:date>2008-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item>
<title>Peculiarities of EPR spectra of methyl radicals in quench-condensed krypton films</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116775</link>
<description>Peculiarities of EPR spectra of methyl radicals in quench-condensed krypton films
Dmitriev, Yu.A.
Methyl radicals are trapped in the solid Kr film by simultaneous condensation of gaseous Kr and the&#13;
 products of the gas discharge in CH₄ doped Kr on the low temperature (4.2 K) substrate located at the center&#13;
 of the microwave cavity. The observed EPR spectrum is a superposition of broad-line and narrow-line series.&#13;
 At a low resonance microwave power, the latter one consists of four hyperfine components with nearly equal&#13;
 intensities, and shows small axial anisotropy of both g- and A-tensors. At a sufficiently large power, two central&#13;
 narrow lines split so that the narrow-line series takes an appearance recorded elsewhere for CH₃ in Ar at&#13;
 higher temperatures above 12 K. Simultaneously, the intensity of two central broad lines increases dramatically&#13;
 while the outer components become saturated. The possible explanation is discussed.
</description>
<pubDate>Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT</pubDate>
<guid isPermaLink="false">http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116775</guid>
<dc:date>2008-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item>
<title>Электроакустическая конверсия в модуляционно-легированных гетероструктурах SiGe/Si</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116774</link>
<description>Электроакустическая конверсия в модуляционно-легированных гетероструктурах SiGe/Si
Хижный, В.И.
Методом высокочастотной гибридной акустической спектроскопии на частоте ~ 225 МГц изучена&#13;
температурная зависимость эффективности линейной генерации звуковых волн электрическими полями&#13;
в модуляционно-легированных гетероструктурах Si1–xGex /Si. Показано, что сигнал конверсии&#13;
для области температур 4,2–150 К связан с наличием областей пространственного заряда в структуре&#13;
и кулоновским механизмом возбуждения продольных акустических волн электрическим полем, нормальным&#13;
к поверхности планарной структуры. Изучено влияние содержания атомов Ge x в когерентно-&#13;
напряженных слоях SiGe на амплитуду сигнала конверсии. Обнаружена высокая чувствительной&#13;
величины эффекта к изменению индекса x в интервале 0,1 &lt; x &lt; 0,13. Обсуждается влияние возможной&#13;
пьезоактивности слоев SiGe, а также зарядов на глубоких ловушках вблизи границ раздела&#13;
Si/SiGe/Si на величину сигнала конверсии.; Методом високочастотної гібридної акустичної спектроскопії на частоті ~ 225 МГц вивчено температурну&#13;
залежність ефективності лінійної генерації звукових хвиль електричними полями в модуляц&#13;
ійно-легованих гетероструктурах Si1–xGex/Si. Показано, що сигнал конверсії для області температур&#13;
4,2–150 К пов’язаний з наявністю областей просторового заряду в структурі й кулонівським&#13;
механізмом порушення поздовжніх акустичних хвиль електричним полем, нормальним до поверхні&#13;
планарної структури. Вивчено вплив вмісту атомів Ge x у когерентно-напружених шарах SiGe на&#13;
амплітуду сигналу конверсії. Виявлено високу чутливість величини ефекту до зміни індексу x в інтервал&#13;
і 0,1 &lt; x &lt; 0,13. Обговорюється вплив можливої п’єзоактивності шарів SiGe, а також зарядів на&#13;
глибоких пастках поблизу межи поділу Si/SiGe/Si на величину сигналу конверсії.; The temperature dependence of the efficiency&#13;
of acoustic wave linear generation by electric fields&#13;
in modulation-doped Si1–xGex/Si heterostructures&#13;
has been studied by the HF-hybrid acoustic spectroscopic&#13;
method at a frequency of ~ 225 MHz. It is&#13;
shown that the conversion signal at temperatures&#13;
ranged from 4,2 to 150 K is associated with the existence&#13;
of space-charge regions in the structure and&#13;
the Coulomb mechanism of electric excitation of&#13;
acoustic waves. The effect of Ge atom content, x,&#13;
in coherence-stressed SiGe layers on the conversion&#13;
signal amplitude is investigated. The effect is&#13;
found to be very sensitive to variations of x in the&#13;
interval 0.1 &lt; x &lt; 0.13. The influence of some possible&#13;
piezoactivity of the SiGe layers and the changes&#13;
on deep traps in the vicinity of Si/SiGe/Si interfaces&#13;
on the conversion signal is discussed.
</description>
<pubDate>Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT</pubDate>
<guid isPermaLink="false">http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116774</guid>
<dc:date>2008-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item>
<title>Квантовые и поверхностные состояния носителей заряда в оптических спектрах нанокластеров в матрице с низкой диэлектрической постоянной</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116773</link>
<description>Квантовые и поверхностные состояния носителей заряда в оптических спектрах нанокластеров в матрице с низкой диэлектрической постоянной
Бондарь, Н.В.; Бродин, М.С.
Получены и проанализированы оптические спектры квантовых точек CdS и ZnSe, выращенных в&#13;
боросиликатном стекле золь-гель методом. Обнаружено, что при концентрациях обоих полупроводников&#13;
х &lt; 0,06% спектры излучения обусловлены аннигиляцией свободных (внутренних) экситонов в&#13;
квантовых состояниях. Рассчитаны средний размер квантовых точек (KT) для данной концентрации&#13;
ZnSe и CdS, который хорошо согласуется с рентгенографическими данными, а также энергия связи&#13;
экситонов с учетом диэлектрического рассогласования полупроводника и матрицы. Высказано предположение,&#13;
что рассогласование может быть причиной появления уровня протекания (перколяции)&#13;
экситонов в массиве КТ, которое наблюдается в обеих системах при х &gt; 0,06%. Впервые обнаружено&#13;
излучение из поверхностного уровня КТ CdS в области 2,7 эВ, образованного внешними атомами с&#13;
оборванными связями, а также полоса излучения из поверхностных локализованных состояний. Установлена&#13;
связь между положением максимума этой полосы и энергией 1S-состояния свободного экситона.&#13;
Показано, что свойства поверхностных локализованных состояний во многом сходны с аналогичными&#13;
свойствами локализованных состояний 3D (аморфные полупроводники, твердые растворы&#13;
замещения) и 2D (квантовые ямы и сверхрешетки) структур.; Отримано та проаналізовано оптичні спектри квантових точок ZnSe та CdS, які було вирощено в боросил&#13;
ікатному склі золь-гель методом. Виявлено, що при концентраціях обох напівпровідників х &lt; 0,6%&#13;
спектри випромінювання обумовлені анігіляцією вільних (внутрішніх) екситонів у квантових станах.&#13;
Розраховано середній розмір квантових точок (КТ) для даної концентрації ZnSe та CdS, котрий добре&#13;
узгоджується з рентгенографічними даними, а також енергію звязку екситонів з урахуванням діелектричного&#13;
неузгодження напівпровідника та матриці. Зроблено припущення, що неузгодження може&#13;
бути причиною появи рівня протікання (перколяції) екситонів в масиві КТ, яке спостерігається в обох&#13;
системах при х &gt; 0,06%. Вперше виявлено випромінювання з поверхневого рівня КТ CdS в області&#13;
2,7 eВ, утвореного зовнішніми атомами з обірваними звзками, а також смугу випромінювання із поверхневих&#13;
локалізованих станів. Встановлено звязок між положенням максимума цієї смуги та&#13;
енергією 1S-стану вільного екситона. Показано, що властивості поверхневих локалізованих станів багато&#13;
в чому схожі на аналогічні властивості локалізованих станів 3D (аморфні напівпровідники,&#13;
тверді розчини заміщення) та 2D (квантові ями та надгратки) структур.; The optical spectra from quantum dots of CdS&#13;
and ZnSe grown by the sol-gel method in borosilicate&#13;
glass are taken and analyzed. It is found that&#13;
for the both semiconductors with x &lt; 0.06% the radiation&#13;
spectra are conditioned by the annihilation&#13;
of free (internal) exitons in the quantum states. For&#13;
that concentration, calculated is the mean size of&#13;
quantum dots (QD) which is in good agreement with&#13;
the x-ray diffraction data, as well as the exiton binding&#13;
energy, the semiconductor-matrix dielectric mismatch&#13;
being taken into account. It is suggested that&#13;
the mismatch may be responsible for an exiton percolation&#13;
level occurred in the QD bulk at x &gt; 0.06%&#13;
in the above systems. A ~ 2.7 eV emission from the&#13;
QD surface level of CdS formed by dangling-bond&#13;
external atoms and an emission band from the surface&#13;
localized states were observed for the first&#13;
time. The relation between the maximum position of&#13;
the band and the energy of the free exciton 1S state&#13;
is found out. It is shown that the properties of surface&#13;
localized states are much similar to those of localized&#13;
states of 3D (amorphous semiconductors,&#13;
substitutional solutions) and 2D (quantum wells and&#13;
superlattices) structures.
</description>
<pubDate>Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT</pubDate>
<guid isPermaLink="false">http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/116773</guid>
<dc:date>2008-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
</channel>
</rss>
