<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rdf:RDF xmlns="http://purl.org/rss/1.0/" xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
<channel rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/74820">
<title>Вопросы атомной науки и техники, 2003, № 1</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/74820</link>
<description/>
<items>
<rdf:Seq>
<rdf:li rdf:resource="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110619"/>
<rdf:li rdf:resource="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110618"/>
<rdf:li rdf:resource="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110617"/>
<rdf:li rdf:resource="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110616"/>
</rdf:Seq>
</items>
<dc:date>2026-04-09T12:32:49Z</dc:date>
</channel>
<item rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110619">
<title>The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110619</link>
<description>The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
Zykov, A.V.; Polozhiy, K.I.; Farenik, V.I.
The combined inductive-capacitive RF discharge at low gas pressure is considered for a case of collisionless ion motion. The power distribution model in the combined RF discharge in case of two asymmetric RF electrodes is developed in term of a ratio of the electrode areas and in term of a magnitude of applied RF voltage. We believe that power distributes on three parts: ionization and acceleration of ions in two electrode-sheath transitions. Two types of design is considered: with one and two RF generators. The dependencies of the dissipated RF power parts are obtained in terms of external discharge parameters. It is revealed an existence of a power maximum on acceleration of ions at electrode, which has a lower area. Been accorded expression for dependence of optimum discharge parameters. At using the power distribution model results the system parameter correlation’s have been obtained for a maximum process effectiveness of physical sputtering for systems on the basis of combined inductive-capacitive discharge.; У роботі розглядається комбінований індукційно-ємнісної ВЧ розряд в області низького тиску робочого газу, коли іони досягають стінок розрядної камери без зіткнень. Для випадку асиметричних ВЧ електродів побудована феноменологична модель балансу потужності, що підводиться до ВЧ розряду в залежності від відношення площ ВЧ електродів і амплітуди прикладеного ВЧ потенціалу. Розглянуті два типи систем: з одним і двома ВЧ генераторами. Отримана залежність складових потужності, що поглинається в розряді в залежності від зовнішніх параметрів розряду. Виявлено існування максимума потужності на прискорення іонів на електрод меншої площі. Знайдена залежність положення даного максимума від параметрів системи. Результати можуть бути використані як при конструюванні й оптимізації розпилювальних систем на базі комбінованого розряду, так і для подальшого розвитку модельних уявлень про фізику ВЧ розрядів.; В работе рассматривается комбинированный индукционно-емкостной ВЧ разряд в области низкого давления рабочего газа, когда уход ионов из плазмы на стенки разрядной камеры происходит без столкновений. Для случая асимметричных ВЧ электродов построена феноменологическая модель баланса подводимой к разряду ВЧ мощности в зависимости от отношения площадей ВЧ электродов и амплитуды приложенного ВЧ потенциала. Рассмотрены два типа систем: с одним и двумя ВЧ генераторами. Получены зависимости составляющих поглощаемой в разряде мощности в зависимости от внешних параметров разряда. Обнаружено существование максимума мощности на ускорение ионов на электрод меньшей площади. Найдена зависимость положения данного максимума от параметров системы. Результаты могут быть использованы как при конструировании и оптимизации распылительных систем на базе комбинированного разряда, так и для дальнейшего развития модельных представлений о физике ВЧ разрядов.
</description>
<dc:date>2003-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110618">
<title>The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110618</link>
<description>The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
Grekov, D.L.; Azarenkov, N.A.; Bizyukov, A.A.; Olefir, V.P.
The PR-1 device is the wide-aperture source of homogeneous plasma. It is using for plasma processing of big diameter samples such as parts of HF antenna and elements of vessel of fusion devices. The paper presented deals with investigation of HF field pattern of the operation regime with external magnetic field. It is shown that the HF fields penetrate into the plasma volume better as compared with the case when magnetic field is turned off. So the plasma flow of greater density could be generated.; Установка ПР-1 являє собою широкоапертурне джерело однорідної плазми, яке сконструйоване для обробки примірників великого діаметру, таких як елементи конструкції ВЧ антен та складові частини камери термоядерних установок. В роботі досліджено розподіл електромагнітних полів в камері установки, що працює в режимі з зовнішнім магнітним полем. Доведено, що в цьому режимі ВЧ поля краще проникають в плазму, ніж в режимі без магнітного поля. Тому в режимі з зовнішнім магнітним полем можливо створювати потік плазми з більшою густиною.; Установка ПР-1 предназначена для плазменной обработки образцов большого диаметра, таких как элементы конструкции ВЧ антенн и элементы камеры установок для магнитного удержания плазмы. В работе проведено изучение распределения ВЧ полей в объеме установки в режиме с внешним магнитным полем. Показано, что в этом случае ВЧ поля лучше проникают в плазму, чем без магнитного поля. Это позволит создавать плазменные потоки большей плотности.
</description>
<dc:date>2003-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110617">
<title>Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110617</link>
<description>Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
Zykova, A.V.; Dudin, S.V.; Polozhiy, K.I.
The technology of synthesis of multilayer coatings on the basis of alumina oxide and structures, like tricalcium phosphate and hydroxylapatite, was suggested by Reactive Ion-Beam Synthesis (RIBS) method in a same vacuum cycle. The substance of the method consists in a physical sputtering of target of compound composition on the specimens with its simultaneous bombardment by intensive ion beams of chemically active gases. The concurrent using of pulsed ion-plasma technology offer the ability to beneficially modify a wide array of surface properties at low temperature; to increase adhesion, density, deposition rate and quality of oxide coatings, to deposit complex multilayer dielectric coatings with ultra disperse structure. The analysis of results obtained in the work, allows to make a conclusion about the advantages of combining of pulsed ion-plasma technology with RIBS method using for the purpose of strong attachment of metal prosthesis in bone tissue and the activation of osseogenesis and osseointegration processes.; Технологія нанесення багатошарових покриттів на основі оксиду алюмінію та структур, типу трикальційфосфат та гідроксилапатит запропонована методом реактивного іонно-плазмового синтезу (РІПС) в єдиному вакуумному циклі. Сутність методу полягає у фізичному розпиленні мішені складного стехіометричного складу на підкладенку з її одночасним бомбардуванням інтенсивними іонними пучками хімічно активних газів. Сумісне використання імпульсної іонно-плазмової технології дозволяє успішно змінювати в широкому діапазоні поверхневі властивості отриманих покриттів: підвищити адгезію, щільність, швидкість нанесення та якість оксидних покриттів, а також отримати багатошарові діелектричні покриття з ультрадисперсною структурою. Аналіз отриманих результатів дозволяє зробити висновок відносно значних переваг сумісного використання імпульсної іонно-плазмової технології та методу РІПС з метою забезпечення надійної фіксації металевого протезу у кістковій тканині та активації процесів остеосинтезу та остеоінтеграції.; Технология нанесения многослойных покрытий на основе оксида алюминия и структур, типа трикальцийфосфат и гидроксилапатит предлагается методом реактивного ионно-пучкового синтеза (РИПС) в едином вакуумном цикле. Сущность метода состоит в физическом распылении мишени сложного стехиометрического состава на образец с его одновременной бомбардировкой интенсивными ионными пучками химически активных газов. Совместное применение импульсной ионно-плазменной технологии позволяет успешно варьировать в широком диапазоне поверхностные свойства получаемых покрытий: повышать адгезию, плотность, скорость нанесения и качество оксидных покрытий, а также наносить многослойные диэлектрические покрытия с ультрадисперсной структурой. Анализ результатов, полученных в работе, позволяет сделать вывод о преимуществах комбинированного использования импульсной ионно-плазменной технологии и метода РИПС для обеспечения надежной фиксации металлического протеза в костной ткани и активации процессов остеосинтеза и остеоинтеграции.
</description>
<dc:date>2003-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110616">
<title>The transport of the erosion products of electrodes in electric arcs</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/110616</link>
<description>The transport of the erosion products of electrodes in electric arcs
Zhovtyansky, V.A.
Electrodes vapour material transport characteristics in the free-burning electric arc and formation of its pressure gradients are investigated. It is shown that adequate defining of gas-dynamic characteristic of electric arc plasma demands successive account of the thermal conductivity processes in the channel arc region. The roles of the gas-dynamic and diffusion processes as transfer mechanisms of electrodes erosion products are compared. The method using distant stabilized wall to study the transfer processes out of channel proposed.; Досліджуються особливості поширення пари електродного матеріалу у відкритій електричній дузі та формування обумовлених нею градієнтів тиску. Показано, що адекватне визначення газодинамічних властивостей електродугової плазми вимагає послідовного урахування процесів теплопровідності в приканаловій області дуги. Порівнюється роль газодинамічних і дифузійних процесів як механізмів відведення продуктів ерозії електродів. Запропонований метод теоретичних досліджень процесів перенесення з використанням віддаленої від каналу дуги стабілізуючої квазі-стінки.; Исследуются особенности распространения паров электродного материала в открытой электрической дуге и формирования обусловленных ими градиентов давления. Показано, что адекватное определение газодинамических свойств электродуговой плазмы требует последовательного учета процессов теплопроводности в приканальной области дуги. Сравнивается роль газодинамических и диффузионных процессов как механизмов отведения продуктов эрозии электродов. Предложен метод теоретических исследований процессов переноса с использованием удаленной от канала дуги стабилизирующей квази-стенки.
</description>
<dc:date>2003-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
</rdf:RDF>
