<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rdf:RDF xmlns="http://purl.org/rss/1.0/" xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
<channel rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/71026">
<title>Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології, 2014, № 2</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/71026</link>
<description/>
<items>
<rdf:Seq>
<rdf:li rdf:resource="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/107165"/>
<rdf:li rdf:resource="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/107164"/>
<rdf:li rdf:resource="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/107163"/>
<rdf:li rdf:resource="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/75980"/>
</rdf:Seq>
</items>
<dc:date>2026-04-14T12:30:56Z</dc:date>
</channel>
<item rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/107165">
<title>Магнетні властивості приладових структур на основі Co та Gd</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/107165</link>
<description>Магнетні властивості приладових структур на основі Co та Gd
Воробйов, С.І.; Дехтярук, Л.В.; Чорноус, А.М.; Шабельник, Т.М.
Робота стосується встановлення загальних закономірностей, яких пов’язано з впливом товщини окремих шарів феромагнетика, кількости повторювань і температури термооброблення мультишарів на основі Co і Gd на їхні магнетні властивості, такі як коерцитивна сила, намагнетованість наситу та залишкова намагнетованість. Показано, що зміна магнетних властивостей відбувається через зростання дефектности інтерфейсів та утворення на них аморфного твердого розчину вже на стадії конденсації. Термооброблення призводить до часткового руйнування інтерфейсів і збільшення концентрації твердого розчину в системі. Коефіцієнт прямокутности петель гістерезису систем має значення, близькі до одиниці. При зміні кута орієнтації зразки в паралельній геометрії міряння характеризуються анізотропією магнетних властивостей у площині плівки.; Работа посвящена установлению общих закономерностей, связанных с влиянием толщины отдельных слоёв ферромагнетика, количества повторений и температуры термообработки мультислоёв на основе Co и Gd на их магнитные свойства, такие как коэрцитивная сила, намагниченность насыщения и остаточная намагниченность. Показано, что изменение магнитных свойств происходит за счёт роста дефектности интерфейсов и образования на них аморфного твёрдого раствора уже на стадии конденсации. Термообработка приводит к частичному разрушению интерфейсов и увеличению концентрации твёрдого раствора в системе. Коэффициент прямоугольности петель гистерезиса систем имеет значения, близкие к единице. При изменении угла ориентации образцы в параллельной геометрии измерения характеризуются анизотропией магнитных свойств в плоскости плёнки.; The paper is devoted to the general regularities, which are concerned with the influence of thickness of the individual layers of ferromagnet, the number of repetitions, and the temperature of heat treatment of the multilayers based on Co and Gd on their magnetic properties such as the coercivity, the saturation of magnetization, and the residual magnetization. As shown, the change of magnetic properties is caused by both the growth of interface imperfection and the formation of amorphous solid solution at the condensation stage. The heat treatment leads to both the partial destruction of interfaces and the increase of concentration of the solid solution in a system. The squareness ratio of hysteresis loops for systems at issue is close to one. In the case of change of orientation angle, the samples in a parallel geometry of measurement are characterized by the anisotropy of magnetic properties in a plane of film.
</description>
<dc:date>2014-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/107164">
<title>Кристаллизация нанопорошков (Y₁₋xEux)₂O₃ со сферической морфологией в условиях ограниченной размерности</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/107164</link>
<description>Кристаллизация нанопорошков (Y₁₋xEux)₂O₃ со сферической морфологией в условиях ограниченной размерности
Безкровный, А.С.; Ермолаева, Ю.В.; Матвеевская, Н.А.; Дулина, Н.А.; Вовк, О.М.; Даниленко, Н.И.; Толмачев, А.В.
Низкотемпературным термолизом и кристаллизацией аморфного прекурсора (Т=600–1000°С) получены кристаллические нанопорошки твёрдых растворов замещения (Y₁₋xEux)₂O₃  (x=0–0,09) со сферической геометрией частиц. Определены основные структурно-морфологические параметры индивидуальных сфер — поликристаллическая (блочная) организация, мезопористость, контролируемый диаметр в диапазоне 100–300 нм с дисперсией не более 15% для каждого типоразмера. Показано влияние на конечный диаметр активации сфер оксида иттрия катионами Eu³⁺ с формированием твёрдого раствора замещения (Y₁₋xEux)₂O₃. Установлены оптимальные температурные маршруты кристаллизации сфер с выходом на равновесный диаметр и структурное качество, характеризующееся размером кристаллических блоков в 40–47 нм.; Низькотемпературним термолізом і кристалізацією аморфного прекурсору (Т=600–1000°С) одержано кристалічні нанопорошки твердих розчинів заміщення (Y₁₋xEux)₂O₃  (x=0–0,09) зі сферичною геометрією частинок. Визначено основні структурно-морфологічні параметри індивідуальних сфер — полікристалічна (блокова) організація, мезопористість, контрольованість діяметра в межах 100–300 нм з дисперсією не більше 15% для кожного типорозміру. Показано вплив на кінцевий діяметер сфер активації оксиду ітрію катіонами Eu³⁺ з формуванням твердого розчину заміщення (Y₁₋xEux)₂O₃. Встановлено оптимальні температурні маршрути кристалізації сфер з виходом на рівноважний діяметер і структурну якість, що характеризується розміром кристалічних блоків у 40–47 нм.; Polycrystalline spherical-shape particles of substitutional solid solutions (Y₁₋xEux)₂O₃ (x=0–0.09) are obtained by low-temperature thermolysis and crystallization of amorphous precursor (Т=600–1000°С). The main structural and morphological parameters, such as polycrystalline structure, mesoporosity, controllability of their diameters in 100–300 nm range with dispersion lower than 15%, are determined. As shown, the Eu³⁺ activator doping influences on the final diameters of the spheres with formation of (Y₁₋xEux)₂O₃ solid solution. Optimal temperature conditions of spheres’ crystallization with resulting equilibrium diameter and with crystallites’ size of 40–47 nm are determined.
</description>
<dc:date>2014-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/107163">
<title>Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/107163</link>
<description>Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике
Косенок, Я.А.; Гайшун, В.Е.; Тюленкова, О.И.; Туров, В.В.; Савицкий, Д.П.
В работе исследовано реологическое поведение композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния, которые могут быть использованы на II-й стадии полировки пластин монокристаллического кремния и других полупроводниковых материалов. Приводятся физически обоснованные формулы для описания эффективной вязкости в зависимости от степени равновесного разрушения и тиксотропного восстановления связей структуры в процессе течения композиционной суспензии. Формулы сравниваются с результатами, полученными экспериментальным путём. Приводятся данные о режимах полировки и качестве поверхности пластин монокристаллического кремния после полировки с использованием композиционной суспензии.; У роботі досліджено поведінку реології композиційних суспензій на основі силікатного золю і нанорозмірних частинок діоксиду кремнію, які можуть бути використані на II-й стадії полірування пластин монокристалічного кремнію та інших напівпровідникових матеріялів. Наведено фізично обґрунтовані формули для опису ефективної в’язкости залежно від ступеня рівноважного руйнування і тиксотропного відновлення зв’язків структури в процесі плину композиційної суспензії. Формули порівнюються з результатами , одержаними експериментальним шляхом. Наведено дані про режими полірування та якість поверхні пластин монокристалічного кремнію після полірування з використанням композиційної суспензії.; The rheological behaviour of the composite suspensions based on silica sol and silica nanoparticles, which can be used at the II-nd stage of polishing of mono-crystalline silicon wafers or other semiconductor materials, is investigated. Physically based formulas are presented to describe the effective viscosity depending on degree of balanced destruction and thixotropic reduction of bonds of structure in the process of flow of composite suspension. The resulting formulas are compared with the experimental data. The data on both the regimes of polishing and surface quality of monocrystalline silicon wafers after polishing using the composite suspension are presented.
</description>
<dc:date>2014-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
<item rdf:about="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/75980">
<title>Получение наноразмерных плёнок LiPON высокочастотным магнетронным напылением</title>
<link>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/75980</link>
<description>Получение наноразмерных плёнок LiPON высокочастотным магнетронным напылением
Вьюнов, О.И.; Коваленко, Л.Л.; Белоус, А.Г.; Bohnke, O.; Bohnke, C.
Описана конструкция лабораторной установки для получения наноразмерных аморфных плёнок фосфор-оксинитрида лития (LiPON) методом&#13;
 высокочастотного магнетронного напыления. Каждый блок установки&#13;
 был модернизирован, чтобы основные параметры напыления (ВЧ-мощность, температура подложки, время напыления, давление рабочего&#13;
 газа) можно было регулировать в широком диапазоне. Установлена взаимосвязь между режимами напыления и микроструктурой плёнок LiPON.&#13;
 Установлено, что полученные плёнки LiPON характеризуются высокой&#13;
 величиной ионной проводимости при комнатной температуре (3,2•10⁻⁶ Ом⁻¹ •см⁻¹) и энергией активации 0,27 эВ. Изготовлен композиционный&#13;
 твёрдый электролит LIPON/LLTO/LIPON, который обладает высокой химической стойкостью при контакте с металлическим литиевым анодом,&#13;
 высокой ионной проводимостью и может быть использован в электрохимических устройствах.; Описано конструкцію лабораторної установки для одержання нанорозмірних, аморфних плівок фосфор-оксинітриду літію (LiPON) методою високочастотного магнетронного напорошення. Кожен блок установки було&#13;
 модернізовано, щоб основні параметри напорошення (ВЧ-потужність, температура підложжя, час напорошення, тиск робочого газу) можна було&#13;
 реґулювати в широкому діяпазоні. Встановлено взаємозв’язок між режимами напорошення та мікроструктурою плівок LiPON. Встановлено, що&#13;
 одержані плівки LiPON характеризуються високою величиною йонної&#13;
 провідности за кімнатної температури (3,2•10⁻⁶ Ом⁻¹ •см⁻¹) та енергією активації у 0,27 еВ. Виготовлено композиційний твердий електроліт&#13;
 LIPON/LLTO/LIPON, який має високу хімічну стійкість при контакті з&#13;
 металевим літієвим анодом, високу йонну провідність і може бути використаний в електрохімічних пристроях.; The construction of laboratory installation for fabrication of nanoscale&#13;
 amorphous films of lithium phosphorus oxynitride (LiPON) by highfrequency&#13;
 magnetron sputtering is described. Each unit of the installation is&#13;
 modified in such a way that the basic parameters of deposition (HF power,&#13;
 substrate temperature, deposition time, pressure of working gas) could be&#13;
 adjusted over a wide range. The relationship between the deposition parameters&#13;
 and the microstructure of the LiPON films is determined. As found, the&#13;
 deposited LiPON films are characterized by a high ionic conductivity at room&#13;
 temperature (3,2•10⁻⁶ Ом⁻¹ •см⁻¹) and conductivity activation energy of 0.27&#13;
 eV. The fabricated LIPON/LLTO/LIPON composite solid electrolyte has a&#13;
 high chemical stability in contact with a lithium anode, high ionic conductivity,&#13;
 and can be used in electrochemical devices.
</description>
<dc:date>2014-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</item>
</rdf:RDF>
