http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/69737 2026-04-09T20:00:48Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98821 Surface cyclotron x-modes propagating along a boundary of uniform plasma Girka, V.A.; Puzyrkov, S.Yu. Propagation of surface cyclotron X - modes (SCXM) at the second harmonics of electron and ion cyclotron frequencies along interface of uniform semi-bounded plasma is under the consideration. It is proved both analytically and numerically that SCXM are the eigenmodes of a planar magnetoactive plasma waveguide structure consisted of a metal wall with dielectric coating and uniform plasma filling. An external steady magnetic field is supposed to be oriented parallel to the plasma interface, so it is perpendicular to the group velocity of the considered extraordinary polarized waves. The influence of the plasma density on the SCXM dispersion has been studied. The theoretical investigation is carried out using the kinetic equation for plasma particles under the conditions of a weak plasma spatial dispersion and taking into the account ordinary case.; У роботі розглядається поширення поверхневих циклотронних X-мод на другій гармоніці електронної та іонної циклотронної частоти вздовж границі однорідної напівобмеженої плазми. Аналітично та чисельно показано, що ці хвилі є власними модами плоскої магнітоактивної плазмової хвиле водної структури яка складається з металевої стінки з діелектричним покриттям та однорідного плазмового наповнення. Зовнішнє постійне магнітне поле спрямоване паралельно границі плазми, перпендикулярно груповій швидкості розглянутих незвичайно поляризованих хвиль. Було вивчено вплив щільності плазми на дисперсію поверхневих циклотронних X-мод. Теоретичне дослідження проведене з використанням кінетичного рівняння для плазми в умовах слабкої просторової дисперсії плазми.; В работе рассматривается распространение поверхностных циклотронных X-мод на второй гармонике электронной и ионной циклотронной частоты вдоль границы однородной полуограниченной плазмы. Аналитически и численно показано, что эти волны являются собственными модами плоской магнитоактивной плазменной волноведущей структуры состоящей из металлической стенки с диэлектрическим покрытием и однородного плазменного наполнения. Внешнее постоянное магнитное поле направлено параллельно границе плазмы, перпендикулярно групповой скорости рассматриваемых необыкновенно поляризованных волн. Было изучено влияние плотности плазмы на дисперсию поверхностных циклотронных X-мод. Теоретическое исследование проведено с использованием кинетического уравнения для плазмы в условиях слабой пространственной дисперсии плазмы. 2007-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98820 Структура, субструктурные характеристики и напряженное состояние нанокристаллических ионно-плазменных конденсатов квазибинарной карбидной системы WC-TiC Соболь, О.В. Методами широкоугловой рентгеновской дифрактометрии в сочетании с рентгенфлюоресцентным спектральным анализом изучено влияние состава распыляемого материала и температуры осаждения на фазовый и элементный составы, структуру, субструктурные характеристики и напряженное состояние ионно-плазменных конденсатов квазибинарной системы WC-TiC.; Методами ширококутової рентгенівської дифрактометрії та рентгенофлюоресцентного спектрального аналізу вивчено вплив складу матеріалу, що розпорошується, та температури осадження на фазовий та елементний склад, структуру, субструктурні характеристики та напружений стан іонно-плазмових покриттів квазібінарної системи WC-TiC.; Using X-ray diffraction and X-ray fluorescent spectral methods the effects of sputtered material and deposition temperature on the phase and element composition, structure, substructure features, and stress state in the ion-plasma quasi-binary WC-TiC coatings. 2007-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98819 Установка для осаждения материалов из газовой фазы Корж, А.Ф.; Лонин, Ю.Ф.; Пилипец, Ю.О.; Хованский, Н.А.; Шеремет, В.И.; Широков, Б.М. Разработана установка для газофазного осаждения материалов. Выполнена оценка газодинамических параметров потока парогазовой смеси в реакционном объеме при обтекании покрываемой поверхности. Исследованы процессы осаждения вольфрама и карбида бора.; Розроблена установка для газо фазного осадження матеріалів. Виконано оцінку газодинамічних параметрів потоку пара газової суміші в реакційному об‘ємі при обтіканні покриваючої поверхні. Дослідженні процеси осадження вольф-раму та карбіду бора.; The installation for gas-phase deposition of materials is developed. Gas- dynamic parameters of a vapor-gas mixture flow in the reaction volume by fowaround of the surface being coated are evaluated. The processes of tungsten and boron carbide deposition are investigated. 2007-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98818 Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов Шулаев, В.М.; Андреев, А.А.; Горбань, В.Ф.; Столбовой, В.А. Изучено два типа наноструктурных покрытий TiN: полученных по традиционной технологии и с приложением к подложке высоковольтных импульсов. Проведено сопоставление данных для обоих типов наноструктурных покрытий по цветовым характеристикам, рентгеноструктурным исследованиям, фрактографиям изломов и на предмет наличия частиц капельной фазы, а также по измерению твердости наноиндентированием. Обнаружено формирование сверх-твердых наноструктурных TiN покрытий, не содержащих в объеме частиц капельной фазы, при наложении на подложку дополнительных высоковольтных импульсов.; Досліджено два типи наноструктурних TiN покриттів: отриманих за традиційною технологією та з прикладанням на підкладку високовольтних імпульсів. Проведено зіставлення даних для обох типів наноструктурних покриттів за кольоровими характеристиками, рентгеноструктурними дослідженнями, фрактографіями зломів та на предмет присутності частинок крапельної фази, а також за вимірюванням твердості наноиндентуванням. Виявлено формування надтвердих наноструктурних TiN покриттів, які не містять в об’ємі частинок крапельної фази при накладанні на підкладку додаткових високовольтних імпульсів.; Two types nano-structructure TiN coatings obtained both by means of traditional technology and with substrate HV pulse bias have been investigated. It has been carried out the comparison both of nanostructure types data; color features, X-ray characteristics, fracture micrographs, concerning droplets presence, and nano-indentation as well. It has been found the formation of dropless superhard nanostructure TiN coatings while additional HV pulse substrate bias. 2007-01-01T00:00:00Z