http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/194012 2026-04-17T23:16:18Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/195432 Пам'яті Віктора Миколайовича Воєводіна 2021-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/195431 Determination of the optimal ozonation mode for winter garlic planting material Pugach, S.G.; Zavada, L.M.; Zamuriev, O.O.; Kudin, D.V.; Opalev, P.O.; Melnyk, A.V.; Scherbina, S.A.; Semenchenko, O.L. The study was carried out at the Institute of Vegetable and Melon Farming of the National Academy of Agrarian Sciences of Ukraine and the Department of Low-Temperature Non-equilibrium Plasma Chemistry of the NSC "Kharkov Institute of Physics and Technology" of the National Academy of Sciences of Ukraine using the varieties of winter garlic, such as Duchess and Merefyanskiy white. Pre-plant treatment with four-time repeatability was carried out 3-5 days before planting using an OzW Stream Ozone TM ozone generator. Laboratory studies of fungal diseases Fusarium and Penicillium progress on the treated material were carried out with four-time repeatability in wet chambers. The effect of ozone concentration of 10, 50, and 100 PPM and exposure time of 10, 60, and 180 min on infestation of garlic with black and green mold was studied.; Дослідження проведено у Інституті овочівництва і баштанництва НААН України та відділі Низькотемпературної нерівноважної плазмохімії ННЦ «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України на сортах часнику озимого «Дюшес» та «Мереф’янський білий». Передсадивну обробку здійснено за 3-5 діб до садіння за допомогою озонатора серії OzW StreamOzone TM у чотириразовому повторенні. Лабораторні дослідження щодо розвитку грибних хвороб родів Fusarium та Penicillium на обробленому матеріалі виконували з використанням вологих камер у чотириразовому повторенні. Досліджено вплив концентрацій озону 10, 50 та 100 ppm O3 та часу експозиції – 10, 100 та 180 хв на ураженість часнику чорною і зеленою пліснявою.; Исследование проведено в Институте овощеводства и бахчеводства НААН Украины и отделе низкотемпературной неравновесной плазмохимии ННЦ «Харьковский физико-технический институт» НАН Украины на сортах чеснока озимого «Дюшес» и «Мерефянский белый». Предпосадочная обработка осуществлась за 3-5 суток до посадки с помощью озонатора серии OzW StreamOzone TM с четырехразовым повторением. Лабораторные исследования по развитию грибных болезней родов Fusarium и Penicillium на обработанном материале выполняли с использованием влажных камер в четырехразовом повторении. Исследовано влияние концентрации озона 10, 50 и 100 ppm O3 и времени экспозиции – 10, 100 и 180 мин на пораженность чеснока черной и зеленой плесенью. 2021-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/195430 Influence of plasma chemical reactions products in barrierless gas discharge in the air on vegetables and fruits storage Yegorov, M.O.; Taran, G.V.; Kudin, D.V.; Zamuriev, O.O.; Opalev, P.O. The influence of the products of plasma chemical reactions (including ozone) on the storage of vegetables and fruits has been investigated. It has been shown that the products of plasma chemical reactions effectively suppress the growth of mold. For a number of vegetables and fruits, surface modification occurs, which leads to the loss of the "marketable" appearance. At the same time, the ripening rate of many products decreases.; Досліджено вплив продуктів плазмохімічних реакцій (в тому числі і озону) на зберігання овочів і фруктів. Показано, що продуктами плазмохімічних реакцій ефективно пригнічується ріст цвілі. Для деяких овочів і фруктів відбувається видозміна поверхні, яка призводить до втрати «товарного» вигляду. При цьому швидкість дозрівання багатьох продуктів знижується.; Исследовано влияние продуктов плазмохимических реакций (в том числе и озона) на хранение овощей и фруктов. Показано, что продуктами плазмохимических реакций эффективно подавляется рост плесени. Для ряда овощей и фруктов происходит видоизменение поверхности, которое приводит к потере «товарного» вида. При этом скорость дозревания многих продуктов снижается. 2021-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/195429 Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃) Fedorovich, O.A.; Hladkovska, O.V.; Hladkovskyi, V.V.; Nedybaliuk, A.F. The results of researches of plasma chemical treatment of lithium monocrystalline tantalate (LiTaO₃) from gas type, bias voltage (energy of chemically active ions) and from current of additional bias generator are given. A closed-loop electron drift plasma chemical reactor and gas mixtures containing Ar, Ar + ClС₄, and Ar + SF₆ were used for the experiments. It was found that the etching rate of LiTaO₃ for the discharge in the gas mixture Ar + CCl₄ is 14 times higher than all other mixtures that were used. It is shown that the proposed idea and approaches of LiTaO₃ processing can be effectively applied for the production of optical systems with a minimum core thickness of about 2…3 μm.; Приведено результати досліджень плазмохімічної обробки монокристалічного танталату літію (LiTaO₃) в залежності від роду газу, напруги зміщення (енергії хімічно активних іонів), а також від струму додаткового генератора зміщення. Для експериментів використано плазмохімічний реактор із замкнутим дрейфом електронів та газові суміші, що містять Ar, Ar+CСl₄ та Ar+SF₆. Виявлено, що швидкість травлення LiTaO₃ для розряду в газовій суміші Ar+CСl₄ у 14 разів вища від усіх інших використовуваних сумішей. Показано, що запропонована ідея та підходи обробки LiTaO₃ можуть бути ефективно застосовані для виробництва оптичних систем з мінімальною товщиною активної зони близько 2…3 мкм.; Приведены результаты исследований плазмохимической обработки монокристаллического танталата лития (LiTaO₃) в зависимости от рода газа, напряжения смещения (энергии химически активных ионов), а также от тока дополнительного генератора смещения. Для экспериментов использован плазмохимический реактор с замкнутым дрейфом электронов и газовые смеси, содержащие Ar, Ar + CСl₄ и Ar + SF₆. Обнаружено, что скорость травления LiTaO₃ для разряда в газовой смеси Ar + CСl₄ в 14 раз выше всех используемых смесей. Показано, что предложенная идея и подходы обработки LiTaO₃ могут быть эффективно использованы для производства оптических систем с минимальной толщиной активной зоны около 2…3 мкм. 2021-01-01T00:00:00Z