http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/14768 2026-04-14T19:25:38Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15674 Памяти Владимира Михайловича Ажажи 2010-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15673 Комплекс аппаратных средств для изучения воздействия на материалы импульсного разряда в газовых и жидкостных средах Гольченко, В.П.; Боев, С.Г.; Гамов, В.О. Разработан прибор с возможностью широкодиапазонной регуляции периода и длительности импульса. Измерительный комплекс позволяет с высокой точностью регистрировать и протоколировать данные.; Розроблено прилад з можливістю широкодіапазонного регулювання періоду й тривалості імпульсу. Вимірювальний комплекс дозволяє з високою точністю реєструвати й протоколювати дані.; A device with the possibility of wide-range adjustment period and pulse duration is developed. Measuring complex allows the accurate recording and data logging. 2010-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15672 Повышение концентрации радона и продуктов его раcпада в зоне электрического разряда в различных средах – источник ложных эффектов наведенной радиоактивности Зеленский, В.Ф.; Гамов, В.О.; Гольченко, В.П.; Боев, С.Г.; Рыжов, В.П. Показано, что в ряде случаев при работе с электрическим разрядом в различных средах появление радиоактивности и следов гелия может быть следствием повышения в зоне разряда концентрации природного радона ²²²Rn и продуктов его распада.; Показано, що в ряді випадків при роботі з електричним розрядом у різних середовищах поява радіоактивності і слідів гелію може бути наслідком підвищення в зоні розряду концентрації природного радону ²²²Rn і продуктів його розпаду.; It is shown that in some cases when working with electrical discharges in different environments the appearance of radioactivity and helium traces may be a result of increase concentration of ²²²Rn natural radon and its decay products in the discharge area. 2010-01-01T00:00:00Z http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/15671 Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 Марченко, Ю.А.; Перун, Н.В.; Сасса, И.В.; Ванжа, А.Ф. Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда.; Описано конструкція та особливості плазмового розряду джерела іонів з катодом, що підігрівається, який призначено для використання на технологічній установці іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2. Приведені залежності струму пучка від параметрів розряду.; Construction and structural features of plasma discharge of ions source with heated cathode is described. This source intended is used in technological plant ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings. Dependences of beam current on the discharge parameters are presented. 2010-01-01T00:00:00Z