http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/76004 2026-05-01T02:12:27Z 2026-05-01T02:12:27Z Dobrovol`s`kii, A.M. Evsyukov, A.N. Goncharov, A.A. Protsenko, I.M. http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/82469 2015-06-01T00:01:54Z 2006-01-01T00:00:00Z

Floating potential of dielectric target in plasma-beam discharge with magnet field Dobrovol`s`kii, A.M.; Evsyukov, A.N.; Goncharov, A.A.; Protsenko, I.M. We present the results of investigations of the floating potential compensation of dielectric target in selfsustained plasma beam discharge in the magnetic field. We use gridless single-stage plasma accelerators with closed electron drift and narrow acceleration zone without of additional electron emitter as plasma beam source. When the source of such type works in collimated beam mode, lack of electrons in the ion flow leads to occurrence of positive charge on the target and reduces the efficiency of ion treatment. Existence of additional glow discharge in beam drift space can influence on target potential. We discuss experimental results of measurement of dielectric target potential for different conditions and proposal to solve the problem.; Мы представляем результаты исследований компенсации плавающего потенциала диэлектрической мишени в самосогласованном пучково-плазменном разряде в магнитном поле. Мы используем бессеточный одноступенчатый плазменный ускоритель с замкнутым дрейфом электронов и узкой зоной ускорения без дополнительного эмиттера электронов в качестве источника пучка плазмы. Когда источник такого типа работает в режиме коллимированного пучка, недостаток электронов в ионном потоке ведет к возникновению положительного заряда на мишени и уменьшает эффективность ионной обработки. Существование дополнительного тлеющего разряда в пространстве дрейфа пучка может влиять на потенциал мишени. Мы обсуждаем экспериментальные результаты измерения потенциала диэлектрической мишени для различных условий и предлагаем решение проблемы.; Ми представляємо результати досліджень компенсації плаваючого потенціалу діелектричної мішені у самоузгодженому пучково-плазмовому розряді у магнітному полі. Ми використовуємо безсітковий одно ступеневий плазмовий прискорювач з замкнутим дрейфом електронів та вузькою зоною прискорення без додаткового емітера електронів як джерело пучка плазми. Коли джерело такого типу працює в режимі колимованого пучка, недолік електронів у іонному потоці веде до виникнення позитивного заряду на мішені та зменшує ефективність іонної обробки. Існування додаткового жевріючого розряду у просторі дрейфу пучка може впливати на потенціал мішені. Ми обговорюємо експериментальні результати вимірювань потенціалу діелектричної мішені для різних умов та пропонуємо розв’язок проблеми.

2006-01-01T00:00:00Z Avtomonov, N.I. Sosnytskiy, S.V. Vavriv, D.M. http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/81281 2015-05-14T00:02:00Z 2006-01-01T00:00:00Z

Dependence of magnetron characteristics on the secondary-emission yield of cold cathode Avtomonov, N.I.; Sosnytskiy, S.V.; Vavriv, D.M. Particle simulations of mm-wavelength magnetrons with cold secondary-emission cathodes show that such important practical characteristics as the output power, efficiency, and operation current are dependent on secondaryemission properties of the cold cathode used in such magnetrons. However, in some cases, the enhancement of the magnetron characteristics can be achieved with a relatively low secondary-emission yield of the cold cathode. This opens a way for using of pure inexpensive metals for the cathode production. The interplay between the secondaryemission yield and the magnetron performance is studied to realize this approach.; Численное моделирование магнетронов мм-длин волн с холодными вторично-эмиссионными катодами показывает, что такие важные практические характеристики как выходная мощность, эффективность, рабочий ток зависят от вторично-эмиссионных свойств холодного катода, используемого в таких магнетронах. Однако, в некоторых случаях усиление магнетронных характеристик может достигаться с относительно низкими коэффициентами вторичной эмиссии холодного катода. Это открывает путь для использования чистых недорогих металлов для изготовления катода. Соотношение между коэффициентом вторичной эмиссии и характеристиками магнетрона исследовано для реализации указанного подхода.; Чисельне моделювання магнетронів мм-довжин хвиль з холодними вторинно-емісійними катодами показує, що такі важливі практичні характеристики як вихідна потужність, ефективність, робочий струм залежать від вторинно-емісійних властивостей холодного катоду, який використовується у таких магнетронах. Але, в деяких випадках підсилення магнетронних характеристик може досягатись з відносно низькими коефіцієнтами вторинної емісії холодного катоду. Це відкриває шлях для використання чистих некоштовних металів для виготовлення катоду. Співвідношення між коефіцієнтом вторинної емісії та характеристиками магнетрону досліджене для реалізації вказаного підходу.

2006-01-01T00:00:00Z Батурин, В.А. Еремин, С.А. Пустовойтов, С.А. http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/81280 2015-05-14T00:02:13Z 2006-01-01T00:00:00Z

Масс-спектрометр вторичных нейтралей на базе ионного имплантера Батурин, В.А.; Еремин, С.А.; Пустовойтов, С.А. Предложен вариант масс-спектрометра вторичных нейтралей с электронно-лучевой ионизацией распыленных частиц. Установка смонтирована на базе высокодозного ионного имплантера, формирующего сфокусированный и сепарированный по массам пучок газовых ионов с энергией 20…150 кэВ и током на образце до 50 мкА. Величина индукции электромагнита масс-сепаратора первичных ионов позволяет использовать первичные ионы с M/Z от 1 до 40. В качестве масс-анализатора вторичных частиц использован монопольный масс-спектрометр МХ7304А, обеспечивающий диапазон массовых чисел 1…400 при массовом разрешении на уровне 1М. Порог чувствительности прибора в режиме анализа вторичных нейтралей составляет порядка 10 ppm.; A secondary neutrals mass spectrometer variant with electron-ray ionization of sputtered particles have been proposed. An apparatus assembled on base of high-dose implanter which form a focussed and separated on mass beam of gas ions with energies 20…150 keV and current at sample about 50 µ A. A magnetic induction value of a massseparator electromagnet allow to use initial ions with ratio M/Z from 1 to 40. The monopole mass spectrometer MX7304A, that ensure a interval of mass values from 1 to 400 at mass resolution about 1 M, used as a secondary particle mass analyser. A apparatus threshold of sensitivity in secondary neutrals analysis is in the range of 10 ppm.; Запропонований варіант мас-спектрометру вторинних нейтралів з електронно-проміневою іонізацією розпилених частинок. Установка змонтована на базі високодозного іонного імплантеру, що формує сфокусований та сепарований за масами пучок газових іонів з енергією 20…150 кеВ та струмом на зразку до 50 мкА. Величина індукції електромагніту мас-сепаратора первинних іонів дозволяє використовувати первинні іони з M/Z від 1 до 40. У якості мас-аналізатора вторинних частинок використано монопольний мас-спектрометр МХ7304А, який забезпечує діапазон масових чисел 1…400 при масовому розрізненні на рівні 1 М. Поріг чутливості прибору у режимі аналізу вторинних нейтралів складає порядку 10 ppm.

2006-01-01T00:00:00Z Батурин, В.А. Карпенко, А.Ю. Пустовойтов, С.А. http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/81279 2015-05-14T00:02:27Z 2006-01-01T00:00:00Z

Источник кластерного пучка внешнего исполнения с лазерным испарением для широкого применения Батурин, В.А.; Карпенко, А.Ю.; Пустовойтов, С.А. Описан кластерный источник с лазерным испарением мишени, работающий в импульсном режиме. Отличительной особенностью источника является его внешнее исполнение, что упрощает юстировку лазера и даёт возможность использовать источник для применения в различных приложениях. В составе источника в качестве импульсного газового затвора используется электромагнитный клапан, работающий на основе ударно-бойкового механизма и позволяющий получать короткие газовые импульсы длительностью ≥50мкс. Возможна генерация кластеров различных веществ, а при использовании вместо инертного несущего газа – реактивного, образование новых молекул, таких, например, как ZnO, TiNx и TiO2 и осаждение тонкопленочных покрытий с их использованием. Приведены некоторые первые результаты экспериментальных работ с использованием этого источника.; A claster beam source with a target laser evaporation which operate in a pulsed regime have been described. A source different peculiarity is its external production that simplyfies a laser alignment and gives a possibility of a source usage for different applications. In source structure a electromagnetic valve, which operates on base of an impact mechanism and allows to obtain the short gas pulses with duration ≥ 50 µ s , is used as a gas shut. The different matter claster generation is possible. At usage reactive gas instead of inertness buffer gas we can obtain the such new molecules as, for example, ZnO, TiNx and TiO2 or/and the thin-film coatings with their usage. The some prelimenary results of the experimental works with usage of this source have been presented.; Описане кластерне джерело з лазерним випарюванням мішені, що працює в імпульсному режимі. Відмінною особливістю джерела є його зовнішнє виконання, що спрощує юстировку лазера та дає можливість застосовувати джерело для використання в різних застосуваннях. В складі джерела як імпульсний газовий затвор використовується електромагнітний клапан, що працює на основі ударно- бойкового механізму та дозволяє отримувати короткі газові імпульси тривалістю ≥ 50 мкс. Можлива генерація кластерів різноманітних речовин, а при застосуванні замість інертного буферного газу – реактивного, утворення нових молекул, таких, наприклад, як ZnO, TiNx і TiO2 та осадження тонкоплівчатих покриттів з їх використанням. Наведені деякі перші результати експериментальних робіт з використанням цього джерела.

2006-01-01T00:00:00Z