http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/70730 2026-04-07T04:39:03Z 2026-04-07T04:39:03Z Креденцер, Б.П. Ленков, С.В. Салимов, Р.А. Перегудов, Д.А. Шомин, С.А. http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/70777 2014-11-13T01:01:41Z 2002-01-01T00:00:00Z

Оптимизация уровня безотказности в сложных устройствах микроэлектроники Креденцер, Б.П.; Ленков, С.В.; Салимов, Р.А.; Перегудов, Д.А.; Шомин, С.А. Рассматривается задача оптимизации показателя безотказности подсистем в сложных устройствах микроэлектроники с одновременным учетом модернизации элементов и их резервирования. Получены расчетные соотношения, позволяющие определить, до какого уровня целесообразно повышать вероятность безотказной работы одного элемента (элементы идентичны) и начиная с какого уровня следует их резервировать, чтобы получить максимальное значение показателя безотказности резервированной подсистемы.; The problem parameter's optimization of non-failure operation of subsystems in complex devices of microelectronics with the simultaneous account of modernization of elements and their reservations is considered. The settlement ratio are received, allowing to define, up to what level it is expedient to raise probability of non-failure operation of one element (elements are identical) and since what level it is necessary to reserve them to receive the maximal value of a parameter of non-failure operation of a reserved subsystem.

2002-01-01T00:00:00Z Сидоренко, В.П. Сидорчук, В.Н. Забродина, О.Н. Николаенко, Ю.Е. http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/70776 2014-11-13T01:01:42Z 2002-01-01T00:00:00Z

Энергонезависимая память на элементах FLOTOX для БИС электронных карт Сидоренко, В.П.; Сидорчук, В.Н.; Забродина, О.Н.; Николаенко, Ю.Е. Рассмотрены вопросы построения матрицы памяти БИС электронных пластиковых карт на FLOTOX-ячейках. Проведен анализ факторов, влияющих на параметры FLOTOX-ячеек в режимах программирования, циклирования стирание/запись и хранения информации. Приведены результаты исследования FLOTOX-ячеек.; FLOTOX memory matrix structure of smart cards LSI have been considered. Analysis of FLOTOX cell parameters in programming, erase/program cycling and retention modes has been carred out. Experemental parameters of FLOTOX cell have been presented.

2002-01-01T00:00:00Z Вербицкий, В.Г. Липовецкий, Г.П. Проценко, Л.В. Сивобород, П.В. http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/70775 2014-11-13T01:01:42Z 2002-01-01T00:00:00Z

Однокристальная микро-ЭВМ для систем с высокоразвитыми локальными сетями Вербицкий, В.Г.; Липовецкий, Г.П.; Проценко, Л.В.; Сивобород, П.В. Рассмотрены функциональные возможности, основные электрические параметры, а также принципы функционирования однокристальной микро-ЭВМ УМ5704ВЕ44, реализующей протокол высокого уровня управления каналом передачи данных (HDLC) — протокол синхронного управления каналом передачи данных (SDLC).; The functional possibilities and major electrical parameters and also principles of functioning are represented for the single-chip microcomputer УМ5704ВЕ44 realizing high level data link control (HDLC) / synchronous data link control (SDLC).

2002-01-01T00:00:00Z Дудин, С.В. Яцков, А.П. Фареник, В.И. http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/70774 2014-11-13T01:01:40Z 2002-01-01T00:00:00Z

Оборудование для зондовой диагностики и контроля плазменных технологических процессов Дудин, С.В.; Яцков, А.П.; Фареник, В.И. Проведен обзор методов и устройств зондового контроля плазменных технологических процессов. Описана серия приборов «Контроль», использующих специально разработанные схемы компенсации и обработки зондового сигнала, а также оригинальные алгоритмы анализа кривых травления. Описан также универсальный прибор «Плазмометр», предназначенный для автоматизированного определения ключевых параметров лабораторной и технологической плазмы.; The review of methods and devices for probe control of plasma technological processes is carried out. A series of "Kontrol" devices using specially designed schemes of the probe signal compensation and processing as well as original algorithms of the analysis of etching curves is described. Versatile instrument "PlasmaMeter" designed for automated definition of key parameters of laboratory and technological plasma is described too.

2002-01-01T00:00:00Z