<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<feed xmlns="http://www.w3.org/2005/Atom" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
<title>Вопросы атомной науки и техники, 2009, № 6</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/69887" rel="alternate"/>
<subtitle/>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/69887</id>
<updated>2026-04-06T23:49:20Z</updated>
<dc:date>2026-04-06T23:49:20Z</dc:date>
<entry>
<title>Памяти Владимира Соломоновича Когана</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/91077" rel="alternate"/>
<author>
<name>Неклюдов, И.М.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/91077</id>
<updated>2016-01-07T01:04:11Z</updated>
<published>2009-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Памяти Владимира Соломоновича Когана
Неклюдов, И.М.
7 сентября 2009 г. перестало биться сердце старейшего сотрудника Национального научного центра «Харьковский физико-технический институт»  НАН Украины, доктора физико-математических наук, профессора Когана Владимира Соломоновича.
</summary>
<dc:date>2009-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Сверхвысокоразрешающая полевая электронная микроскопия: наблюдение атомных орбиталей углеродных моноатомных цепочек</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/90885" rel="alternate"/>
<author>
<name>Михайловский, И.М.</name>
</author>
<author>
<name>Саданов, Е.В.</name>
</author>
<author>
<name>Мазилова, T.И.</name>
</author>
<author>
<name>Ксенофонтов, В.А.</name>
</author>
<author>
<name>Великодная, О.А.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/90885</id>
<updated>2016-01-06T01:02:33Z</updated>
<published>2009-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Сверхвысокоразрешающая полевая электронная микроскопия: наблюдение атомных орбиталей углеродных моноатомных цепочек
Михайловский, И.М.; Саданов, Е.В.; Мазилова, T.И.; Ксенофонтов, В.А.; Великодная, О.А.
Разработанная недавно высокополевая методика изготовления атомных цепочек сделала возможным&#13;
достижение в полевом электронном эмиссионном микроскопе (ПЭЭМ) ультравысокого разрешения, которое&#13;
использовано для прямого наблюдения внутриатомной электронной структуры. Применяя криогенный ПЭЭМ, удалось разрешить пространственные конфигурации атомных орбиталей, которые соответствуют квантовым состояниям атома на конце свободностоящих углеродных атомных цепочек. Полученный&#13;
результат демонстрирует возможность визуализации основных аспектов квантовой механики и может способствовать появлению и развитию новых подходов в области нанотехнологий.; Ультрависоке розрізнення польового електронного емісійного мікроскопа, яке розроблено нещодавно завдяки високопольової методики виготовлення атомних ланцюжків, може бути використано для прямого&#13;
спостереження внутріатомної електронної будови. Використовуючи кріогенний мікроскоп нам вдалося одержати зображення просторових конфігурацій атомних орбіталей, які відповідають квантовим станам атома&#13;
на кінці вільностоячих вуглецевих атомних ланцюжків. Одержаний результат демонструє можливість візуалізації основних аспектів квантової механіки и може сприяти виникненню та розвитку нових підходів в галузі нанотехнологій.; A recently developed high-field technique of atomic chains preparation has made it possible to attain the ultrahigh&#13;
resolution of field-emission electron microscopy, which can be used to direct imaging the intra-atomic electronic&#13;
structure. By applying cryogenic field-emission electron microscopy, we are able to resolve the spatial configuration&#13;
of atomic orbitals, which correspond to quantized states of the end atom in free-standing carbon atomic&#13;
chains. Knowledge of the intra-atomic structure will make it possible to visualize generic aspects of quantum mechanics&#13;
and also lead to new approaches for a wide range of nanotechnological applications.
</summary>
<dc:date>2009-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>О связях энтальпий плавления и испарения у металлов IV–VI групп</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/90792" rel="alternate"/>
<author>
<name>Осипов, А.Д.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/90792</id>
<updated>2016-01-05T01:02:11Z</updated>
<published>2009-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">О связях энтальпий плавления и испарения у металлов IV–VI групп
Осипов, А.Д.
Показано, что использование функций эффективных параметров, включающих энергии ионизации атомов, числа электронов связей, позволяют оценить энтальпии плавления и испарения у металлов IV-VI групп.; Показано, що використання функцій ефективних параметрів, що включають енергії іонізації атомів, числа електронів зв’язку, дозволяє оцінити ентальпії плавлення і випаровування у металів IV-VI груп.; It is shown, that the use functions of effective parameters, including energies of ionization atoms, the numbers of&#13;
electrons connections allow estimating enthalpies of melting and evaporation in metals of IV-VI groups.
</summary>
<dc:date>2009-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/90791" rel="alternate"/>
<author>
<name>Aksyonov, D.S.</name>
</author>
<author>
<name>Aksenov, I.I.</name>
</author>
<author>
<name>Luchaninov, A.A.</name>
</author>
<author>
<name>Reshetnyak, E.N.</name>
</author>
<author>
<name>Strel’nitskij, V.E.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/90791</id>
<updated>2016-01-05T01:02:23Z</updated>
<published>2009-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma
Aksyonov, D.S.; Aksenov, I.I.; Luchaninov, A.A.; Reshetnyak, E.N.; Strel’nitskij, V.E.
Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings using a filtered vacuum-arc plasma source with consumable titaniumsilicon&#13;
cathode was investigated. The thickness of films and their elemental composition were defined by means of&#13;
the X-ray fluorescent analysis. It has been established, that the silicon concentration in coating can be changed over&#13;
a wide range, from zero to the maximum value defined by silicon content in the cathode, by adjustment deposition&#13;
process parameters – working gas pressure, substrate negative bias voltage, magnetic field intensity and its spatial&#13;
distribution.; Досліджено процес синтезу Ti-Si- та Ti-Si-N–покриттів з використанням джерела фільтрованої вакуумно-&#13;
дугової плазми з титан-силіцієвим катодом, що витрачається. Товщина плівок та їх елементний склад&#13;
визначались рентгенофлуоресцентним методом. Установлено, що концентрація силіцію в покритті може&#13;
змінюватись в широкому діапазоні, від нуля до максимальної величини, що визначається вмістом силіцію в&#13;
катоді, шляхом регулювання параметрів процесу – тиску робочого газу, негативної напруги зміщення на&#13;
підкладці, напруженості та просторового розподілу магнітних полів.; Исследован процесс синтеза Ti-Si- и Ti-Si-N–покрытий с использованием источника фильтрованной&#13;
вакуумно-дуговой плазмы с титан-кремниевым катодом. Толщина плёнок и их элементный состав&#13;
определялись рентгенофлуоресцентным методом. Установлено, что концентрация кремния в покрытии&#13;
может быть изменена в широких пределах, от нуля до максимальной величины, определяемому&#13;
содержанием кремния в катоде, путём регулировки параметров процесса осаждения – давления рабочего&#13;
газа, отрицательного напряжения смещения на подложке, напряжённости и пространственного&#13;
распределения магнитных полей.
</summary>
<dc:date>2009-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
</feed>
