<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<feed xmlns="http://www.w3.org/2005/Atom" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
<title>Физическая инженерия поверхности, 2010, № 1</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/69644" rel="alternate"/>
<subtitle/>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/69644</id>
<updated>2026-04-09T12:55:41Z</updated>
<dc:date>2026-04-09T12:55:41Z</dc:date>
<entry>
<title>Особенности применения рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для определения толщины ультратонких пленок</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98851" rel="alternate"/>
<author>
<name>Стервоедов, А.Н.</name>
</author>
<author>
<name>Береснев, В.М.</name>
</author>
<author>
<name>Сергеева, Н.В.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98851</id>
<updated>2016-04-19T00:02:23Z</updated>
<published>2010-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Особенности применения рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для определения толщины ультратонких пленок
Стервоедов, А.Н.; Береснев, В.М.; Сергеева, Н.В.
В работе на примере измерения параметров ультратонких (3 – 5 нм) TiNx пленок показана возможность использования рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для определения толщины и сплошности пленок наноразмерной толщины. Пленки TiNx были получены на кремнии&#13;
методом слаботочного ионно-лучевого распыления титановой мишени в атмосфере азота. Показаны преимущества метода РФЭС по сравнению с другими распространенными методами&#13;
исследования поверхности твердого тела, описана методика измерения толщины ультратонких&#13;
пленок.; У роботі на прикладі вимірювання параметрів ультратонких (3 – 5 нм) TiNx плівок показана&#13;
можливість використання рентгенівської фотоелектронної спектроскопії для визначення&#13;
товщини і суцільності плівок нанорозмірної товщини. Плівки TiNx були отримані на кремнії&#13;
методом слаботочного іонно-променевого розпилення титанової мішені в атмосфері азоту.&#13;
Показано переваги методу РФЕС в порівнянні з іншими поширеними методами дослідження&#13;
поверхні твердого тіла, описана методика вимірювання товщини ультратонких плівок.; In the current paper, the example of measuring the parameters of ultrathin (3 – 5 nm) TiNx films&#13;
demonstrates the possibility of using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) for determination the&#13;
thickness and continuity of the films of nanoscale thickness. TiNx films were obtained on silicon by&#13;
the low-current ion-beam sputtering of titanium target in a nitrogen atmosphere. The advantages of&#13;
XPS method in comparison with other common methods of solid surface analysis are shown. The&#13;
method of measuring the thickness of ultrathin films by XPS was described in details.
</summary>
<dc:date>2010-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Формирование регулярной пористой структуры р-InP</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98850" rel="alternate"/>
<author>
<name>Сычикова, Я.А.</name>
</author>
<author>
<name>Кидалов, В.В.</name>
</author>
<author>
<name>Сукач, Г.А.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98850</id>
<updated>2016-04-19T00:02:22Z</updated>
<published>2010-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Формирование регулярной пористой структуры р-InP
Сычикова, Я.А.; Кидалов, В.В.; Сукач, Г.А.
Показана необходимость использования освещения образцов р-InP во время анодизации в&#13;
растворе соляной кислоты для получения равномерного ансамбля пор на поверхности исследуемого кристалла. Определены оптимальные условия для формирования регулярной структуры пористого слоя фосфида индия р-типа. Получены образцы с диаметром пор 30 – 40 нм.&#13;
Формирование окисного слоя на поверхности кристаллов не наблюдалось, что является желаемым результатом при получении наноматериалов.; Показано необхідність використання освітлення зразків р-InP під час анодизації в розчині соляної кислоти для одержання рівномірного ансамблю пор на поверхні досліджуваного кристала.&#13;
Визначено оптимальні умови для формування регулярної структури пористого шару фосфіду&#13;
індію р-типу. Отримані зразки з діаметром пор 30 – 40 нм. Формування окисного шару на поверхні кристалів не спостерігалося, що є бажаним результатом при одержанні наноматериалів.; The necessity of lighting p-InP samples during anodization in a solution of hydrochloric acid to obtain&#13;
a uniform ensemble of pores on the surface of the crystal. The optimal conditions for the formation&#13;
of regular structure of the porous layer of indium phosphide p-type. Obtain samples with a pore diameter&#13;
of 30 – 40 nm. The formation of the oxide layer on the surface of the crystals was not observed,&#13;
which is the desired outcome in obtaining nanomaterials.
</summary>
<dc:date>2010-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Влияние процессов кластеризации в газах на скорость звука и его поглощение</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98849" rel="alternate"/>
<author>
<name>Павлов, А.М.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98849</id>
<updated>2016-04-19T00:02:21Z</updated>
<published>2010-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Влияние процессов кластеризации в газах на скорость звука и его поглощение
Павлов, А.М.
В статье доказывается, что процессы кластеризации газа влияют на показатель адиабаты и&#13;
скорость звука в нем. Формула, полученная для отношения теплоемкостей, содержит энергию&#13;
связей димеров и тримеров, концентрацию мономеров и множитель, связанный с частотой&#13;
звуковой волны. Отсюда видно, что и показатель адиабаты и скорость звука, а также его поглощение должны зависеть как от частоты колебания, так и от степени кластеризации.; У статті доводиться, що процеси кластерізації газу впливають на показник адіабати і швидкість&#13;
звуку в ньому. Формула, отримана для відношення теплоємкостей, містить енергію зв’язків&#13;
димерів і тримерів, концентрацію мономерів і множник, пов’язаний із частотою звукової хвилі.&#13;
Звідси видно, що й показник адіабати й швидкість звуку, а також його поглинання повинні&#13;
залежати як від частоти коливання, так і від ступеня кластерізації.; It is proved that the processes of clustering effect on the gas adiabatic index and the speed of sound&#13;
in it. The formula obtained for the ratio of specific heats contains the energy of the dimmer and trimmer,&#13;
monomer concentration and the factor associated with the frequency of the sound wave. This&#13;
shows that the adiabatic index and the speed of sound, as well as its absorption should depend on the&#13;
frequency of oscillations, and the degree of clustering.
</summary>
<dc:date>2010-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Микроструктура межзеренных границ в поликристаллическом кремнии и ее влияние на перенос носителей заряда</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98848" rel="alternate"/>
<author>
<name>Абдурахманов, Б.М.</name>
</author>
<author>
<name>Олимов, Л.О.</name>
</author>
<author>
<name>Абдуразаков, Ф.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/98848</id>
<updated>2016-04-19T00:02:21Z</updated>
<published>2010-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Микроструктура межзеренных границ в поликристаллическом кремнии и ее влияние на перенос носителей заряда
Абдурахманов, Б.М.; Олимов, Л.О.; Абдуразаков, Ф.
Экспериментально исследованы микроструктура и морфология границ зерен поликристаллического кремния полученного разными способами. Поверхность зерен размером 100 –&#13;
300 мкм изобилует выступами и микропустотами размером ∼ 10 мкм. На межзеренных границах&#13;
имеются скопления примесей, определяющие совместно с зарядовыми состояниями ход температурной зависимости удельного сопротивления поликристаллического кремния.; Експериментально досліджена мікроструктура та морфологія границь зерен полікристалічного&#13;
кремнію отриманого різними способами. Поверхня зерен розміром 100 – 300 мкм покрита&#13;
численними виступами та мікропорожнечами розміром ∼ 10 мкм. На міжзерених границях&#13;
присутні скупчення домішок, що визначають разом із зарядовими станами хід температурної&#13;
залежності питомого опору полікристалічного кремнію.; Experimentally studied the microstructure and morphology of grain boundaries of polycrystalline&#13;
silicon obtained by different methods. The surface of the grain size of 100 – 300 microns is replete&#13;
with bumps and micro-sized voids? ∼ 10 microns. In between the grain boundaries are accumulations&#13;
of impurities that determine the charge states with the temperature dependence of resistivity of&#13;
polycrystalline silicon.
</summary>
<dc:date>2010-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
</feed>
