<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<feed xmlns="http://www.w3.org/2005/Atom" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
<title>Problems of Atomic Science and Technology, 2023, № 3</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/194027" rel="alternate"/>
<subtitle/>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/194027</id>
<updated>2026-04-17T18:59:26Z</updated>
<dc:date>2026-04-17T18:59:26Z</dc:date>
<entry>
<title>Interaction of fluxes of fast and thermal neutrons with an aqueous solution of organic dye methylene blue containing and not containing boric acid</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/196162" rel="alternate"/>
<author>
<name>Tsyats’ko, V.V.</name>
</author>
<author>
<name>Gokov, S.P.</name>
</author>
<author>
<name>Kazarinov, Yu.G.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/196162</id>
<updated>2023-12-11T11:42:12Z</updated>
<published>2023-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Interaction of fluxes of fast and thermal neutrons with an aqueous solution of organic dye methylene blue containing and not containing boric acid
Tsyats’ko, V.V.; Gokov, S.P.; Kazarinov, Yu.G.
The processes of interaction of neutron fluxes with an aqueous solution of the organic dye methylene blue (MB) – C₁₆H₁₈N₃SCl containing and not containing 4% boric acid (H₃BO₃) were studied. The work was carried out at the linear electron accelerator LUE-300 NSC KIPT. A set of tungsten plates was used as a neutron producing target. The electron energy was 15 MeV, the average current was 20 μA. The samples were behind lead shielding and without it, with and without a moderator. The energy spectra of neutron fluxes are calculated at the location of samples with a moderator with a thickness of 0 to 5 cm. The total neutron fluence was 2∙10¹¹ n/cm².; Досліджено процеси взаємодії потоків нейтронів з водним розчином органічного барвника метиленовий синій (MС) – C₁₆H₁₈N₃SCl, що містить і не містить 4% борної кислоти (H₃BO₃). Робота виконувалася на лінійному прискорювачі електронів ЛУЕ-300 ННЦ ХФТІ. Як нейтронопродукуюча мішень використовувався набір вольфрамових пластин. Енергія електронів становила 15 МеВ, середній струм – 20 мкА. Зразки знаходилися за свинцевим захистом і без нього з отеплювачем і без. Розраховані енергетичні спектри потоків нейтронів у місці розташування зразків із сповільнювачем товщиною від 0 до 5 см. Сумарний флюєнс нейтронів становив 2∙10¹¹н/см².
</summary>
<dc:date>2023-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Voltage source up to 30 kV with pulsation not more than 0.1%</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/196161" rel="alternate"/>
<author>
<name>Krivonosov, G.A.</name>
</author>
<author>
<name>Svystunov, O.А.</name>
</author>
<author>
<name>Vasiliev, A.V.</name>
</author>
<author>
<name>Sotnikov, G.V.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/196161</id>
<updated>2023-12-11T11:41:49Z</updated>
<published>2023-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Voltage source up to 30 kV with pulsation not more than 0.1%
Krivonosov, G.A.; Svystunov, O.А.; Vasiliev, A.V.; Sotnikov, G.V.
A DC source with a voltage of 30 kV with a ripple of less than 0.1% has been developed and manufactured for accelerating and focusing electrons in a dielectric laser accelerator on a chip structure. The source, which has a smooth voltage change limit from 10 to 30 kV, with a ripple of 0.1% over the entire voltage range in the specified range, is made on the basis of a 3-phase network. Such voltage stability is necessary for the correct recording of the energy of electrons accelerated by a laser pulse.; Розроблено та виготовлено джерело постійного струму напругою 30 кВ з пульсаціями менше 0,1% для прискорення та фокусування електронів у діелектричному лазерному прискорювачі на структурі мікросхеми. Джерело, що має плавну межу зміни напруги від 10 до 30 кВ, з пульсаціями 0,1% по всьому діапазону напруг у зазначеному діапазоні, виконано на основі 3-фазної мережі. Така стабільність напруги необхідна для правильної реєстрації енергії електронів, що прискорені лазерним імпульсом.
</summary>
<dc:date>2023-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Influence of helium ions beams with energies 0.12 MeV on sputtering process on surface of tungsten</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/196160" rel="alternate"/>
<author>
<name>Manuilenko, O.V.</name>
</author>
<author>
<name>Prokhorenko, E.M.</name>
</author>
<author>
<name>Pavlii, K.V.</name>
</author>
<author>
<name>Zajtsev, B.V.</name>
</author>
<author>
<name>Dubniuk, S.N.</name>
</author>
<author>
<name>Lytvynenko, V.V.</name>
</author>
<author>
<name>Kasatkin, Yu.A.</name>
</author>
<author>
<name>Prokhorenko, T.G.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/196160</id>
<updated>2023-12-11T11:40:59Z</updated>
<published>2023-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Influence of helium ions beams with energies 0.12 MeV on sputtering process on surface of tungsten
Manuilenko, O.V.; Prokhorenko, E.M.; Pavlii, K.V.; Zajtsev, B.V.; Dubniuk, S.N.; Lytvynenko, V.V.; Kasatkin, Yu.A.; Prokhorenko, T.G.
The samples of tungsten with a purity of 99.5 and 99.7% were irradiated with helium ion beams (EHe⁺ = 0.12 MeV). The total sputtering coefficients for the sample depth up to 60 Å from the surface of sample were obtained. It was found that on the surface of tungsten, the number of pits (the flecking effect) significantly exceeds the number of bubbles (the blistering effect). The damage profiles of the surface of tungsten as a result of irradiation with helium ions are calculated. The areas of maximal display of effects of damage are determined.; Проведено опромінення зразків вольфраму з чистотою 99,5 і 99,7% пучками іонів гелію (EHe⁺ = 0,12 МeВ). Отримано сумарні коефіцієнти розпилення за глибиною зразка до 60 Å від поверхні зразка. Знайдено, що на поверхні зразків вольфраму кількість ямок (ефект флекінгу) істотно перевищує кількість бульбашок (ефект блістерингу). Пораховані профілі пошкодження поверхні вольфраму в результаті опромінення іонами гелію. Визначено зони максимального прояву руйнівних ефектів.
</summary>
<dc:date>2023-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>High resolution probe-forming system with spherical aberration correction for nuclear microprobe</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/196159" rel="alternate"/>
<author>
<name>Ponomarev, A.G.</name>
</author>
<author>
<name>Kolinko, S.V.</name>
</author>
<author>
<name>Polozhii, H.E.</name>
</author>
<author>
<name>Rebrov, V.A.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/196159</id>
<updated>2023-12-10T18:08:15Z</updated>
<published>2023-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">High resolution probe-forming system with spherical aberration correction for nuclear microprobe
Ponomarev, A.G.; Kolinko, S.V.; Polozhii, H.E.; Rebrov, V.A.
A probe-forming system based on a separate orthomorphic quadruplet of magnetic quadrupole lenses with a short working distance is considered, allowing the system demagnification to be significantly increased. Three magnetic octupole lenses are used to correct spherical aberrations. The parameters of the octupole corrector are calculated using the matricant method. The focusing properties of the system are determined by means of a probe formation optimization process based on the value of the maximum reduced collimated acceptance. The calculations performed showed the feasibility of such a probe forming system for microanalysis and proton beam writing technique.; Розглянуто зондоформуючу систему на базі розподіленого ортоморфного квадруплету магнітних квадрупольних лінз з малою робочою відстанню, що дозволило значно збільшити коефіцієнти зменшення. Для корекції сферичних аберацій застосовуються три магнітні октупольні лінзи. Розрахунок параметрів октупольного коректора виконується методом матрицантів. Фокусуючі властивості системи визначаються за рахунок оптимізації процесу формування зонда на основі величини максимального приведеного колімованого аксептансу. Проведені розрахунки показали, що така система може бути реалізована для застосування в методиках мікроаналізу та протонно-променевої літографії.
</summary>
<dc:date>2023-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
</feed>
