<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<feed xmlns="http://www.w3.org/2005/Atom" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
<title>Физика низких температур, 1997, № 10</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/150453" rel="alternate"/>
<subtitle/>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/150453</id>
<updated>2026-04-09T15:33:35Z</updated>
<dc:date>2026-04-09T15:33:35Z</dc:date>
<entry>
<title>Anisotropic pinning and the mixed state galvanothermomagnetic properties of superconductors a phenomenological approach</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/175408" rel="alternate"/>
<author>
<name>Shklovskij, V.A.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/175408</id>
<updated>2021-02-01T23:28:11Z</updated>
<published>1997-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Anisotropic pinning and the mixed state galvanothermomagnetic properties of superconductors a phenomenological approach
Shklovskij, V.A.
In the presence of isotropic and anisotropic pinning the vortex dynamics is discussed in terms of&#13;
phenomenologically introduced, nonlinear viscosities. The formulas tor linear galvanothermomagnetic&#13;
effects are derived and analyzed under the condition at which the transport current or temperature&#13;
gradient is directed at arbitrary angle with respect to the unidirected twins, which cause the anisotropic&#13;
pinning. It is shown that two new effects which appear due to the anisotropic pinning, namely (with&#13;
respect to the reversal of the magnetic field direction) even transverse and odd longitudinal voltage,&#13;
have a distinct origin. The first is due to the guided vortex motion, while the second appears only when&#13;
anisotropic (in contrast with isotropic) pinning changes the Hall drag coefficient. We also show that the&#13;
last effect might be masked in the experiment by a large, odd contribution, which has the same angular&#13;
dependence and which appears due to the Ettingshausen effect In order to clarify the problem of&#13;
influence of the twins on the Hall drag coefficient, we discuss the possibility of separating these two&#13;
contributions in the experiment.
</summary>
<dc:date>1997-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Photon excitation of the third molecular continuum in solid krypton</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/175407" rel="alternate"/>
<author>
<name>Ogurtsov, A.N.</name>
</author>
<author>
<name>Savchenko, E.V.</name>
</author>
<author>
<name>Becker, J.</name>
</author>
<author>
<name>Runne, M.</name>
</author>
<author>
<name>Zimmerer, G.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/175407</id>
<updated>2021-02-01T23:28:03Z</updated>
<published>1997-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Photon excitation of the third molecular continuum in solid krypton
Ogurtsov, A.N.; Savchenko, E.V.; Becker, J.; Runne, M.; Zimmerer, G.
Luminescence study of the near-ultraviolet continuum in nominally pure solid krypton under&#13;
selective excitation by synchrotron radiation is presented. Intrinsic nature of the emission has been&#13;
established. Clear threshold behavior at the band gap energy reveals the key role of the electron-hole&#13;
pairs in a population of the continuum forming states.
</summary>
<dc:date>1997-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Влияние циклической смены нормального и сверхпроводящего состояний на деформацию сплавов Pb-In</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/175406" rel="alternate"/>
<author>
<name>Лебедев, В.П.</name>
</author>
<author>
<name>Крыловский, В.С.</name>
</author>
<author>
<name>Пинто Симоес, В.М.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/175406</id>
<updated>2021-02-01T23:27:58Z</updated>
<published>1997-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Влияние циклической смены нормального и сверхпроводящего состояний на деформацию сплавов Pb-In
Лебедев, В.П.; Крыловский, В.С.; Пинто Симоес, В.М.
Установлено упрочняющее действие циклической смены нормального и сверхпроводящего&#13;
состоянии на монокристаллы сплавов системы Pb-In. Возрастание деформирующего напряжения&#13;
металла при таком воздействий связывается с увеличением плотности деформационных дефектов; Встановлено зміцнюючу дію циклічної зміни нормального та надпровідного станів на&#13;
монокристали сплавів системи Pb-In. Зростання деформуючого напруження метала при такому&#13;
впливі пов'язується із збільшенням густини деформаційних дефектів.; It is found that the cyclic change of normal and&#13;
superconducting states contributes to the strengthening of Pb-In alloys single crystals. The increase in&#13;
straining stress in this case may be due to the in-&#13;
crease in structural defects density.
</summary>
<dc:date>1997-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Релаксация и эффекты градиента потенциала в висмутовом микроконтакте</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/175405" rel="alternate"/>
<author>
<name>Андриевский, В.В.</name>
</author>
<author>
<name>Комник, Ю.Ф.</name>
</author>
<author>
<name>Рожок, С.В.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/175405</id>
<updated>2021-02-01T23:27:12Z</updated>
<published>1997-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Релаксация и эффекты градиента потенциала в висмутовом микроконтакте
Андриевский, В.В.; Комник, Ю.Ф.; Рожок, С.В.
Показано, что на положение первой линии поперечной электронной фокусировки в висмуте на&#13;
шкале магнитных полей сильное влияние оказывает релаксация электронов в эмиттерном&#13;
микроконтакте, в результате чего энергия электронов, покинувших микроконтактную область,&#13;
меньше, чем энергия eV, задаваемая приложенным к микроконтакту напряжением. При протекании&#13;
сильных токов на положение линии электронной фокусировки оказывает влияние также собственное&#13;
магнитное поле тока, причем дополнительное ее смещение под влиянием этого фактора нелинейно&#13;
зависит от V, что обусловлено сильной нелинейностью вольт-амперных характеристик висмутового&#13;
микроконтакта. Показано, что эта нелинейность может быть объяснена ростом концентрации&#13;
носителей заряда в области микроконтакта под влиянием градиента распределения потенциала и&#13;
процесса межзонного туннелирования. С помощью этих механизмов достигается точное описание&#13;
нелинейности вольт-амперных характеристик висмутовых микроконтактов.; Виявлено, що на позицію першої лінії поперечного електронного фокусування у вісмуті на шкалі&#13;
магнітних полей сильно впливає релаксація електронів в емітерному мікроконтакті, внаслідок чого&#13;
енергія електронів, які покинули мікроконтактну зону, менша енергії eV, обумовленої прикладеною&#13;
до мікроконтакту напругою. Під час протікання потужних струмів на позицію лінії електронного&#13;
фокусування впливає також власне магнітне поле струму, до того ж її додаткове зміщення під&#13;
впливом цього фактора нелінійно залежить від V, що обумовлюється сильною нелінійністю вольт-&#13;
амперних характеристик вісмутового мікроконтакту. Виявлено, що ця нелінійність може бути&#13;
пояснена зростанням концентрації носіїв заряду в зоні мікроконтакту під впливом градієнта&#13;
розподілу потенціалу та процеса міжзонного тунелювання, за допомогою цих механізмів досягається&#13;
точний опис нелінійності вольт-амперних характеристик вісмутових мікроконтактів.; It is shown that the position of the first line of&#13;
the transverse electron focusing in Bi on the magnetic field scale is strongly influenced by the electron relaxation in the emitting point contact. As a&#13;
result, the electrons which left the point contact&#13;
region have energies below those dictated by the&#13;
voltage applied to the point contact. At high currents the EF line position is also influenced by the&#13;
intrinsic magnetic field of the current. An additional&#13;
shift of the EF line is nonlinear with V because of&#13;
strong nonlinearity of the I-V characteristics of Bi&#13;
point contacts. It is shown that the nonlinearity may&#13;
be attributed to the growing concentration of charge&#13;
carriers in the point contact region due to the gradient of the potential distribution and interband tunneling. These mechanism permit the nonlinearity of&#13;
the I-V characteristics of Bi point contacts to be&#13;
described exactly.
</summary>
<dc:date>1997-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
</feed>
