<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<feed xmlns="http://www.w3.org/2005/Atom" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/">
<title>Сверхтвердые материалы, 2015, № 3</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126140" rel="alternate"/>
<subtitle/>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126140</id>
<updated>2026-04-27T15:34:03Z</updated>
<dc:date>2026-04-27T15:34:03Z</dc:date>
<entry>
<title>Методи очистки поверхні кристалів алмазу</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126174" rel="alternate"/>
<author>
<name>Супрун, О.М.</name>
</author>
<author>
<name>Ільницька, Г.Д.</name>
</author>
<author>
<name>Ткач, В.М.</name>
</author>
<author>
<name>Івахненко, С.О.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126174</id>
<updated>2017-11-17T01:02:46Z</updated>
<published>2015-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Методи очистки поверхні кристалів алмазу
Супрун, О.М.; Ільницька, Г.Д.; Ткач, В.М.; Івахненко, С.О.
Визначено методи поетапної очистки монокристалів алмазу від поверхневого забруднення. Основні етапи обробки полягають у хімічній очистці поверхні, іонному травленні та очистці ультразвуком. Дані методи забезпечили повну очистку поверхні монокристалів алмазу.; Определены методы поэтапной очистки монокристаллов алмаза от поверхностного загрязнения. Основные этапы обработки заключаются в химической очистке поверхности, ионном травлении и очистке ультразвуком. Данные методы обеспечили полную очистку поверхности монокристаллов алмаза.; Methods of step-by-step cleaning of contamination from diamond single crystals surfaces have been developed. The main stages of the cleaning: chemical cleaning of the surface, ion etching, and ultrasound cleaning have been discussed. It has been shown that these methods offer a complete cleaning the surfaces of diamond single crystals.
</summary>
<dc:date>2015-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Влияние условий синтеза детонационных наноалмазов на состояние их поверхностного слоя</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126173" rel="alternate"/>
<author>
<name>Панова, А.Н.</name>
</author>
<author>
<name>Долматов, В.Ю.</name>
</author>
<author>
<name>Ищенко, Е.В.</name>
</author>
<author>
<name>Цапюк, Г.Г.</name>
</author>
<author>
<name>Бочечка, А.А.</name>
</author>
<author>
<name>Веретенникова, М.В.</name>
</author>
<author>
<name>Myllymäki, V.</name>
</author>
<author>
<name>Никитин, Е.В.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126173</id>
<updated>2017-11-17T01:02:40Z</updated>
<published>2015-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Влияние условий синтеза детонационных наноалмазов на состояние их поверхностного слоя
Панова, А.Н.; Долматов, В.Ю.; Ищенко, Е.В.; Цапюк, Г.Г.; Бочечка, А.А.; Веретенникова, М.В.; Myllymäki, V.; Никитин, Е.В.
Исследована термодесорбция летучих продуктов с поверхности детонационных наноалмазов, модифицированных в процессе синтеза. Показано, что возможное их легирование слабо влияет на характер и температурный диапазон выделения атомарного кислорода, воды, моно- и диоксида углерода. Спектр атомарного кислорода имеет два максимума (250–300 и 550–650 °С), воды – три максимума (50–80, 220–260 и 550–600 °С), СО – один максимум при 600–760 °С и СО₂ – два максимума (200–270 и 520–660 °С). У фосфоросодержащих детонационных наноалмазов обнаружено выделение фосфина во всем температурном диапазоне воздействия на них.; Досліджено термодесорбцію летких сполук з поверхні детонаційних наноалмазів, модифікованих в процесі синтезу. Показано, що можлива інтеркаляція різних елементів в їхню структуру слабо впливає на характер і температурний діапазон виділення атомарного кисню, води, моно- та діоксиду вуглецю. Спектр атомарного кисню має два максимуми (250–300 и 550–650 °С), води – три максимуми (50–80, 220–260 и 550–600 °С), СО – один максимум при 600–760 °С і СО₂ – два максимуми (200–270 и 520–660 °С). У фосфоровмісних детонаційних наноалмазів спостерігається десорбція фосфіну у всьому температурному діапазоні дії на них.; In the work thermodesorption of volatile products from the surface of detonation nanodiamonds (DND) modified during synthesis has been investigated. It is that possible doping the DND, as a rule, weakly influence the behavior and temperature range of evolution of atomic oxygen, water, monoxide and dioxide of carbon. Evolution of atomic oxygen has 2 maximums at 250–300 °С and 550–650 °С, water – 3 maximums at 50–80 °С, 220–260 °С and 550–600 °С, monoxide – 1 maximum at 600–760 °С, and dioxide – 2 maximums at 200–270 °С and 520–660 °С. It was detected that phosphorous-containing DND isolate phosphine over the all temperature range of influence the DND.
</summary>
<dc:date>2015-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Ротационная схема высокоэффективной правки шлифовальных кругов из кубического нитрида бора</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126172" rel="alternate"/>
<author>
<name>Hesse, l D.</name>
</author>
<author>
<name>Karyazin, A.</name>
</author>
<author>
<name>Старков, В.К.</name>
</author>
<author>
<name>Рябцев, С.А.</name>
</author>
<author>
<name>Горин, Н.А.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126172</id>
<updated>2017-11-17T01:02:39Z</updated>
<published>2015-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Ротационная схема высокоэффективной правки шлифовальных кругов из кубического нитрида бора
Hesse, l D.; Karyazin, A.; Старков, В.К.; Рябцев, С.А.; Горин, Н.А.
Исследована кинематика ротационной схемы правки шлифовальных кругов вращающимся алмазным кругом чашечной формы. На примерах шлифования высокопористыми кругами из кубического нитрида бора на керамических связках деталей из жаропрочных никелевых и титановых сплавов и высоколегированных сталей показаны преимущества такой правки в сравнении с правкой обтачиванием алмазными карандашами.; Досліджено кінематику ротаційної схеми правки шліфувальних кругів алмазним кругом чашечної форми, що обертається. На прикладах шліфування високопористими кругами з кубічного нітриду бору на керамічних зв’язках деталей з жароміцних нікелевих і титанових сплавів і високолегованих сталей показано її переваги порівняно з правкою обточуванням алмазними олівцями.; Studied rotational kinematics scheme dressing of grinding wheels by rotating diamond cup. Examples of highly porous grinding wheels of cubic boron nitride ceramic ligaments parts of heat-resistant nickel alloys and titanium alloys and alloyed steels shown its advantages in comparison to edit the turning of diamond pencils.
</summary>
<dc:date>2015-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
<entry>
<title>Модифікування поверхні активованого вугілля методом газо-фазного хлорування тетрахлоридом вуглецю</title>
<link href="http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126171" rel="alternate"/>
<author>
<name>Веселовська, К.І.</name>
</author>
<author>
<name>Веселовський, В.Л.</name>
</author>
<author>
<name>Діюк, В.Є.</name>
</author>
<author>
<name>Гайдай, С.В.</name>
</author>
<author>
<name>Іщенко, О.В.</name>
</author>
<id>http://dspace.nbuv.gov.ua:80/handle/123456789/126171</id>
<updated>2017-11-17T01:02:50Z</updated>
<published>2015-01-01T00:00:00Z</published>
<summary type="text">Модифікування поверхні активованого вугілля методом газо-фазного хлорування тетрахлоридом вуглецю
Веселовська, К.І.; Веселовський, В.Л.; Діюк, В.Є.; Гайдай, С.В.; Іщенко, О.В.
Досліджено модифікування поверхні активованого вугілля марки СКН методом газофазного хлорування парою CCl₄. Вивчено вплив температури проведення реакції на кількість прищепленого хлору в температурному інтервалі 200–500 °С, а також термічну стійкість приєднаного хлору. Показано, що хлорування парою CCl₄ в газовій фазі веде до прищеплення в поверхневий шар вугілля до 19,5 % (за масою) (5,5 ммоль/г) хлору. Встановлено, що амінування хлор­вмісних зразків СКН приводить до заміщення поверхневого галогену азото­вмісними групами у кількостях до 1,14 ммоль/г.; Исследовано модифицирование поверхности активированного угля марки СКН методом газофазного хлорирования парами CCl₄. Изучено влияние температуры проведения реакции на количество привитого хлора в температурном интервале 200–500 °С, а также термическую устойчивость присоединенного хлора. Показано, что хлорирование парами CCl₄ в газовой фазе ведет к присоединению в поверхностный слой угля до 19,5 % (по массе) (5,5 ммоль/г) хлора. Установлено, что аминирование хлорсодержащих образцов СКН приводит к замещению поверхностного галогена азотсодержащими группами в количествах до 1,14 ммоль/г.; The surface modification of activated carbons SCN by gas-phase chlorination with CCl₄ vapor was investigated. The influence of the reaction temperature on the grafted amount of chlorine in the temperature range 200–500ºC and thermal stability of the chlorine were studied. It was shown that chlorination with CCl₄ vapor in gaseous phase leads to grafting of 19.5 wt.% (5.5 mmol/g) chlorine into the surface layer. It was found that amination of chlorinated samples SCN leads to substitution of the surface-halogen to nitrogen groups up to 1.14 mmol/g.
</summary>
<dc:date>2015-01-01T00:00:00Z</dc:date>
</entry>
</feed>
